ನಮ್ಮ ವೆಬ್‌ಸೈಟ್‌ಗಳಿಗೆ ಸುಸ್ವಾಗತ!

ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್

ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್

ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತ ವಿವರಣೆ:

ವರ್ಗ ಮೆಟಲ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿ
ರಾಸಾಯನಿಕ ಸೂತ್ರ Hf
ಸಂಯೋಜನೆ ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್
ಶುದ್ಧತೆ 99.9%,99.95%,99.99%
ಆಕಾರ ಫಲಕಗಳು,ಕಾಲಮ್ ಗುರಿಗಳು,ಆರ್ಕ್ ಕ್ಯಾಥೋಡ್ಗಳು,ಕಸ್ಟಮ್-ನಿರ್ಮಿತ
ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ನಿರ್ವಾತ ಕರಗುವಿಕೆ,PM
ಲಭ್ಯವಿರುವ ಗಾತ್ರ L≤2000ಮಿಮೀ,W≤200mm

ಉತ್ಪನ್ನದ ವಿವರ

ಉತ್ಪನ್ನ ಟ್ಯಾಗ್ಗಳು

ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್ ಪ್ರಕಾಶಮಾನವಾದ ಬೆಳ್ಳಿ ಹೊಳಪು ಪರಿವರ್ತನೆಯ ಲೋಹವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ನೈಸರ್ಗಿಕವಾಗಿ ಡಕ್ಟೈಲ್ ಆಗಿದೆ. ಇದು ಪರಮಾಣು ಸಂಖ್ಯೆ 72 ಮತ್ತು ಪರಮಾಣು ದ್ರವ್ಯರಾಶಿ 178.49. ಇದರ ಕರಗುವ ಬಿಂದು 2227℃, ಕುದಿಯುವ ಬಿಂದು 4602℃ ಮತ್ತು ಸಾಂದ್ರತೆ 13.31g/cm³. ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್ ದುರ್ಬಲವಾದ ಹೈಡ್ರೋಕ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ, ದುರ್ಬಲಗೊಳಿಸಿದ ಸಲ್ಫ್ಯೂರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಬಲವಾದ ಕ್ಷಾರೀಯ ದ್ರಾವಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸುವುದಿಲ್ಲ, ಆದರೆ ಹೈಡ್ರೋಫ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಆಕ್ವಾ ರೆಜಿಯಾದಲ್ಲಿ ಕರಗುತ್ತದೆ.

ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಗಳು ವಿವಿಧ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ಲೇಪನಗಳ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತವೆ: ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಾಧನಗಳು, ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ರೆಸಿಸ್ಟರ್, ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಗೇಟ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಸಂವೇದಕಗಳು.

ರಿಚ್ ಸ್ಪೆಷಲ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ಸ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಟಾರ್ಗೆಟ್‌ನ ತಯಾರಕರಾಗಿದ್ದು, ಗ್ರಾಹಕರ ವಿಶೇಷಣಗಳ ಪ್ರಕಾರ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್‌ಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು. ಹೆಚ್ಚಿನ ಮಾಹಿತಿಗಾಗಿ, ದಯವಿಟ್ಟು ನಮ್ಮನ್ನು ಸಂಪರ್ಕಿಸಿ.


  • ಹಿಂದಿನ:
  • ಮುಂದೆ: