CuAl Sputtering ಟಾರ್ಗೆಟ್ ಹೈ ಪ್ಯೂರಿಟಿ ಥಿನ್ ಫಿಲ್ಮ್ Pvd ಕೋಟಿಂಗ್ ಕಸ್ಟಮ್ ಮೇಡ್

ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ, ಕರ್ಷಕ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ತೂಕದ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ತಾಮ್ರದ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಯು ಹಲವಾರು ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳು ಮತ್ತು ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ಪರಿಪೂರ್ಣವಾಗಿದೆ. ಇದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 1-3% ತಾಮ್ರದ ಅಂಶವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂನೊಂದಿಗೆ ಒಂದೇ ರೀತಿಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. CuAl ಹೆಚ್ಚಿನ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಯಂತ್ರಸಾಧ್ಯತೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಸೂಕ್ತತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹಕ್ಕೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ CuAl ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಯನ್ನು ಅರೆವಾಹಕ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಘಟಕಗಳಿಂದ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಬಹುದು.

ರಿಚ್ ಸ್ಪೆಷಲ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ಸ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಟಾರ್ಗೆಟ್ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಪರಿಣತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಗ್ರಾಹಕರ ವಿಶೇಷಣಗಳ ಪ್ರಕಾರ ತಾಮ್ರದ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು. ನಮ್ಮ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಏಕರೂಪದ ರಚನೆ, ಯಾವುದೇ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆ, ರಂಧ್ರಗಳು ಅಥವಾ ಬಿರುಕುಗಳಿಲ್ಲದ ಹೊಳಪು ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತವೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಮಾಹಿತಿಗಾಗಿ, ದಯವಿಟ್ಟು ನಮ್ಮನ್ನು ಸಂಪರ್ಕಿಸಿ.