V Sputtering Target ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ខ្សែភាពយន្តស្តើង Pvd Coating ផលិតតាមតម្រូវការ
វ៉ាណាដ្យូម
ការពិពណ៌នាគោលដៅ Vanadium Sputtering
វ៉ាណាដ្យូម គឺជាលោហៈរឹង និងរឹង មានរូបរាងប្រផេះ-ប្រផេះ។ វាពិបាកជាងលោហធាតុភាគច្រើន ហើយបង្ហាញភាពធន់នឹងច្រេះល្អប្រឆាំងនឹងអាល់កាឡាំង និងអាស៊ីត។ ចំណុចរលាយរបស់វាគឺ 1890 ℃ ហើយចំណុចរំពុះគឺ 3380 ℃។ លេខអាតូមិករបស់វាគឺ 23 ហើយទម្ងន់អាតូមិកគឺ 50.9414 ។ វាមានរចនាសម្ព័ន្ធគូបដែលផ្តោតលើមុខ និងរដ្ឋអុកស៊ីតកម្មនៅក្នុងសមាសធាតុរបស់វានៃ +5, +4, +3 និង +2 ។ វាមានចំណុចរលាយខ្ពស់ ភាពធន់ ភាពរឹង និងធន់នឹងច្រេះ។
Vanadium ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយក្នុងឧស្សាហកម្មនិងកម្មវិធីមួយចំនួនដូចជាម៉ាស៊ីនយន្តហោះ ស៊ុមខ្យល់ល្បឿនលឿន ម៉ាស៊ីនប្រតិកម្មនុយក្លេអ៊ែរ និងការផលិតដែក។
ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់នៃ Vanadium sputtering គោលដៅគឺជាសម្ភារៈសំខាន់សម្រាប់កោសិកាពន្លឺព្រះអាទិត្យនិងថ្នាំកូតកញ្ចក់អុបទិក។
ការវិភាគគីមី
| ភាពបរិសុទ្ធ | ៩៩.៧ | 99.9 | 99.95 | 99.99 |
| Fe | ≤០.១ | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 |
| Al | ≤០.២ | ≤0.05 | ≤0.03 | ≤0.01 |
| Si | ≤0.15 | ≤០.១ | ≤0.05 | ≤0.01 |
| C | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| N | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| O | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.03 |
| ភាពមិនបរិសុទ្ធសរុប | ≤០.៣ | ≤០.១ | ≤0.05 | ≤0.01 |
ការវេចខ្ចប់គោលដៅ Vanadium Sputtering
គោលដៅរបស់ Vanadium sputter របស់យើងត្រូវបានដាក់ស្លាកយ៉ាងច្បាស់ និងដាក់ស្លាកខាងក្រៅ ដើម្បីធានាបាននូវការកំណត់អត្តសញ្ញាណ និងការត្រួតពិនិត្យគុណភាពប្រកបដោយប្រសិទ្ធភាព។ មានការប្រុងប្រយ័ត្នខ្ពស់ ដើម្បីជៀសវាងការខូចខាតដែលអាចបណ្តាលមកពីការរក្សាទុក ឬការដឹកជញ្ជូន។
ទទួលបានទំនាក់ទំនង
គោលដៅ វ៉ាណាដ្យូម របស់ RSM ផ្តល់នូវភាពបរិសុទ្ធ និងស្ថិរភាពដ៏អស្ចារ្យ។ ពួកវាមានក្នុងទម្រង់ផ្សេងៗគ្នា ភាពបរិសុទ្ធ ទំហំ និងតម្លៃ។ យើងមានជំនាញលើសម្ភារៈថ្នាំកូតខ្សែភាពយន្តស្តើងដែលមានភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ជាមួយនឹងលក្ខណៈសម្បត្តិដ៏ល្អឥតខ្ចោះ ក៏ដូចជាដង់ស៊ីតេខ្ពស់បំផុតដែលអាចធ្វើទៅបាន និងទំហំគ្រាប់ធញ្ញជាតិមធ្យមតូចបំផុតដែលអាចធ្វើបានសម្រាប់ថ្នាំកូតស្លាប់ ការតុបតែងផ្នែករថយន្ត កញ្ចក់អ៊ីទាប សៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នា semiconductor ធន់នឹងខ្សែភាពយន្តស្តើង ការបង្ហាញក្រាហ្វិក។ , លំហអាកាស, ថតម៉ាញេទិក, អេក្រង់ប៉ះ, កោសិកាពន្លឺព្រះអាទិត្យខ្សែភាពយន្តស្តើង និងកម្មវិធីបញ្ចេញចំហាយរាងកាយ (PVD) ផ្សេងទៀត។ សូមផ្ញើមកយើងនូវការសាកសួរសម្រាប់ការកំណត់តម្លៃបច្ចុប្បន្នលើគោលដៅ sputtering និងសម្ភារៈបន្សល់ទុកផ្សេងទៀតដែលមិនមាននៅក្នុងបញ្ជី។
