បំណែកនៃសារធាតុស៊ីលីកុន Tungsten
បំណែកនៃសារធាតុស៊ីលីកុន Tungsten
Tungsten silicide WSi2 ត្រូវបានប្រើជាសម្ភារៈឆក់អគ្គិសនីនៅក្នុងមីក្រូអេឡិចត្រូនិច ការបិទនៅលើខ្សែប៉ូលីស៊ីលីកុន ថ្នាំកូតប្រឆាំងនឹងអុកស៊ីតកម្ម និងថ្នាំកូតខ្សែធន់។ Tungsten silicide ត្រូវបានប្រើជាវត្ថុធាតុទំនាក់ទំនងក្នុងមីក្រូអេឡិចត្រូនិកដោយមានភាពធន់ទ្រាំនៃ 60-80μΩcm ។ វាត្រូវបានបង្កើតឡើងនៅ 1000 ° C ។ ជាធម្មតាវាត្រូវបានគេប្រើជា shunt សម្រាប់បន្ទាត់ polysilicon ដើម្បីបង្កើនចរន្តរបស់វា និងបង្កើនល្បឿនសញ្ញា។ ស្រទាប់ Tungsten Silicide អាចត្រូវបានរៀបចំដោយការបំភាយចំហាយគីមី ដូចជាការបញ្ចេញចំហាយ។ ប្រើ monosilane ឬ dichlorosilane និង tungsten hexafluoride ជាឧស្ម័នវត្ថុធាតុដើម។ ខ្សែភាពយន្តដែលបានដាក់គឺមិនមែនជា stoichiometric និងតម្រូវឱ្យមានការ annealing ដែលត្រូវបានផ្លាស់ប្តូរទៅជាទម្រង់ stoichiometric ដំណើរការបន្ថែមទៀត។
Tungsten silicide អាចជំនួសខ្សែភាពយន្ត tungsten មុន។ Tungsten silicide ក៏ត្រូវបានគេប្រើជាស្រទាប់របាំងរវាងស៊ីលីកុន និងលោហធាតុផ្សេងទៀតដែរ។
Tungsten silicide ក៏មានតម្លៃណាស់នៅក្នុងប្រព័ន្ធមីក្រូអេឡិចត្រូនិច ដែលក្នុងនោះសារធាតុ tungsten silicide ត្រូវបានប្រើជាចម្បងជាខ្សែភាពយន្តស្តើងសម្រាប់ផលិត microcircuits ។ ចំពោះគោលបំណងនេះ ខ្សែភាពយន្តស៊ីលីកុន tungsten អាចត្រូវបានឆ្លាក់ដោយប្លាស្មាដោយប្រើឧទាហរណ៍ ស៊ីលីកុន។
| ធាតុ | សមាសភាពគីមី | |||||
| ធាតុ | W | C | P | Fe | S | Si |
| មាតិកា (wt%) | ៧៦.២២ | 0.01 | 0.001 | 0.12 | 0.004 | តុល្យភាព |
សម្ភារៈពិសេសសម្បូរបែបមានជំនាញក្នុងការផលិត Sputtering Target ហើយអាចផលិត Tungsten Silicideបំណែកនេះបើយោងតាមការបញ្ជាក់របស់អតិថិជន។ សម្រាប់ព័ត៌មានបន្ថែម សូមទាក់ទងមកយើងខ្ញុំ។
