საბითუმო NiTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made მწარმოებელი და მიმწოდებელი

ნიკელის ტიტანი

NiTi Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული გამორჩეული სურათი

მოკლე აღწერა:

კატეგორია	დისკები sputtering სამიზნე
ქიმიური ფორმულა	NiTi
კომპოზიცია	ნიკელის ტიტანი
სიწმინდე	99.9%, 99.95%, 99.99%
ფორმა	ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული
წარმოების პროცესი	ვაკუუმის დნობა, PM
ხელმისაწვდომი ზომა	L≤200mm, W≤200mm

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

Nickel Titanium Sputtering სამიზნე აღწერა

Nickel Titanium Sputtering Targets დამზადებულია ვაკუუმური დნობის და PM-ის საშუალებით. როგორც მარტენზიტის, ისე ოსტენიტის სტრუქტურა შეიძლება შეინიშნოს ტემპერატურის ცვლილებისა და მექანიკური სტრესის გამო.
ნიკელის ტიტანის შენადნობი არის ერთ-ერთი ფორმის მეხსიერების შენადნობი (SMA). SMA-ს შეუძლია აღადგინოს თავდაპირველი ფორმა შესაბამისი სითბოს ან სტრესის ზემოქმედების შედეგად დაბალ ტემპერატურაზე მექანიკური დეფორმაციის გაძლების შემდეგ. SMA საფარები აჩვენებენ მრავალფეროვან სასარგებლო თვისებებს: ფორმის მეხსიერების ეფექტი, მოტეხილობის წინააღმდეგობა, სუპერ ელასტიურობა, ამაღლებული სიმტკიცე და ელასტიურობა. NiTi თხელი ფენების უნიკალური მახასიათებლის გამო, Nickel Titanium Sputtering Targets ფართოდ გამოიყენება მრავალ ინდუსტრიაში: ორთოპედიულ, გულ-სისხლძარღვთა და ორთოდონტიულ, ქირურგიულ ინსტრუმენტებში და ნეიროქირურგიაში.

Nickel Titanium Sputtering Target Packaging

ჩვენი Nickel Titanium sputter სამიზნე მკაფიოდ არის მონიშნული და ეტიკეტირებული გარედან, ეფექტური იდენტიფიკაციისა და ხარისხის კონტროლის უზრუნველსაყოფად. დიდი სიფრთხილეა მიღებული, რათა თავიდან იქნას აცილებული ნებისმიერი დაზიანება, რომელიც შეიძლება გამოწვეული იყოს შენახვის ან ტრანსპორტირების დროს.

Nickel Titanium Sputtering Target Packaging

მიიღეთ კონტაქტი

RSM-ის Nickel Titanium sputtering სამიზნეები არის ულტრა მაღალი სისუფთავისა და ერთგვაროვანი. ისინი ხელმისაწვდომია სხვადასხვა ფორმით, სისუფთავით, ზომისა და ფასით. ჩვენ სპეციალიზირებულნი ვართ მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის საფარის მასალების წარმოებაში, შესანიშნავი წარმადობით, ასევე მაქსიმალური სიმკვრივით და მარცვლეულის უმცირესი შესაძლო საშუალო ზომით ყალიბის საფარში გამოსაყენებლად, დეკორაციაში, ავტომობილის ნაწილებში, დაბალი E მინის, ნახევრადგამტარი ინტეგრირებული მიკროსქემის, თხელი ფირის გამოსაყენებლად. წინააღმდეგობა, გრაფიკული დისპლეი, აერონავტიკა, მაგნიტური ჩაწერა, შეხება ეკრანი, თხელი ფირის მზის ბატარეა და სხვა ფიზიკური ორთქლის დეპონირების (PVD) აპლიკაციები. გთხოვთ, გამოგვიგზავნოთ მოთხოვნა დაფქვის სამიზნეებზე და სხვა დეპონირების მასალებზე, რომლებიც არ არის ჩამოთვლილი.

წინა: NiMo Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული

შემდეგი: NiTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made