კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება ჩვენს საიტებზე!

სიახლეები

  • სამიზნეების ფუნქციები ვაკუუმურ საფარში

    სამიზნეების ფუნქციები ვაკუუმურ საფარში

    მიზანს ბევრი ეფექტი აქვს და ბაზრის განვითარების სივრცე დიდია. ის ძალიან სასარგებლოა ბევრ სფეროში. თითქმის ყველა ახალი დახვეწილი მოწყობილობა იყენებს ძლიერ მაგნიტებს სპირალურ ელექტრონებს, რათა დააჩქაროს არგონის იონიზაცია სამიზნის ირგვლივ, რის შედეგადაც იზრდება შეჯახების ალბათობა...
    დაწვრილებით
  • დაშლის მიზნების კატეგორია დაყოფილია მაგნიტრონის თხრილის ტექნოლოგიით

    დაშლის მიზნების კატეგორია დაყოფილია მაგნიტრონის თხრილის ტექნოლოგიით

    ის შეიძლება დაიყოს მუდმივი მაგნიტრონის და RF მაგნიტრონის ნახვრეტად. DC sputtering მეთოდი მოითხოვს, რომ სამიზნეს შეუძლია გადაიტანოს იონური დაბომბვის პროცესიდან მიღებული დადებითი მუხტი კათოდში მასთან მჭიდრო კონტაქტში, შემდეგ კი ამ მეთოდს შეუძლია მხოლოდ გამტარის დ...
    დაწვრილებით
  • სიფრთხილის ზომები შენადნობის სამიზნეებისთვის

    სიფრთხილის ზომები შენადნობის სამიზნეებისთვის

    1、 ჭურვის მომზადება ძალიან მნიშვნელოვანია ვაკუუმური კამერის, განსაკუთრებით დაფქვის სისტემის სისუფთავის შენარჩუნება. საპოხი ზეთის, მტვრისა და წინა საფარის შედეგად წარმოქმნილი ნებისმიერი ნარჩენი შეაგროვებს წყლის ორთქლს და სხვა დამაბინძურებლებს, რაც პირდაპირ იმოქმედებს ვაკუუმის ხარისხზე და გაზრდის...
    დაწვრილებით
  • ვაკუუმით დაფარული სამიზნეების გაშავების მიზეზები

    ვაკუუმით დაფარული სამიზნეების გაშავების მიზეზები

    ვაკუუმური საფარის ზედა და ქვედა ფირფიტების ფერი არ არის სწორი, ხოლო ფირფიტის ორი ბოლოს ფერი განსხვავებულია. გარდა ამისა, რა არის ფერის გაშავება? ინჟინერი Rich Special Materials Co., შპს, ბატონი Mu Jiangang, განმარტავს მიზეზებს. გაშავება გამოწვეულია ნარჩენი ჰაერით...
    დაწვრილებით
  • მაგნიტრონის დაშლის სამიზნეების კლასიფიკაცია და გამოყენება

    მაგნიტრონის დაშლის სამიზნეების კლასიფიკაცია და გამოყენება

    1. მაგნიტრონის დახშობის მეთოდი: მაგნიტრონის დაფხვრა შეიძლება დაიყოს DC sputtering, საშუალო სიხშირის sputtering და RF sputtering A. DC sputtering ელექტრომომარაგება იაფია და სიმკვრივე დეპონირებული ფილმი ცუდი. ზოგადად, საყოფაცხოვრებო ფოტოთერმული და თხელი ფირის ბატარეები გამოიყენება...
    დაწვრილებით
  • ლითონის მოლიბდენის სამიზნეების ეფექტები მობილური ტელეფონის LCD-ზე

    ლითონის მოლიბდენის სამიზნეების ეფექტები მობილური ტელეფონის LCD-ზე

    დღესდღეობით, მობილური ტელეფონები გახდა საზოგადოებისთვის ყველაზე შეუცვლელი ნივთი და მობილური ტელეფონების ეკრანები სულ უფრო და უფრო მაღალი დონის ხდება. ეკრანის ყოვლისმომცველი დიზაინი და პატარა ბამბის დიზაინი მნიშვნელოვანი ნაბიჯია მობილური ტელეფონის LCD-ის შესაქმნელად. იცით, რა არის ეს - დაფარვა: გამოიყენეთ მაგნიტრონი ...
    დაწვრილებით
  • განსხვავებები აორთქლების საფარსა და აორთქლების საფარს შორის

    განსხვავებები აორთქლების საფარსა და აორთქლების საფარს შორის

    როგორც ყველამ ვიცით, ვაკუუმური დაფარვისას ხშირად გამოყენებული მეთოდებია ვაკუუმ ტრანსპირაცია და იონური დაფრქვევა. რა განსხვავებაა ტრანსპირაციულ საფარსა და ჭუჭყიან საფარს შორის ბევრ ადამიანს აქვს ასეთი კითხვები. მოდით გაგიზიაროთ განსხვავება ტრანსპირაციულ დაფარვასა და გაფცქვნას შორის...
    დაწვრილებით
  • მაღალი სისუფთავის სპილენძის დაფხვნილის სამიზნის გამოყენება

    მაღალი სისუფთავის სპილენძის დაფხვნილის სამიზნის გამოყენება

    დახშობის სამიზნეები ძირითადად გამოიყენება ელექტრონულ და საინფორმაციო ინდუსტრიებში, როგორიცაა ინტეგრირებული წრე, ინფორმაციის შენახვა, LCD, ლაზერული მეხსიერება, ელექტრონული კონტროლერი და ა. მაღალი კლასის...
    დაწვრილებით
  • მაღალი სისუფთავის სპილენძის სამიზნის განვითარების პერსპექტივა

    მაღალი სისუფთავის სპილენძის სამიზნის განვითარების პერსპექტივა

    ამჟამად, თითქმის ყველა მაღალი დონის ულტრა მაღალი სისუფთავის ლითონის სპილენძის სამიზნე, რომელიც საჭიროა IC ინდუსტრიაში, მონოპოლიზებულია რამდენიმე მსხვილი უცხოური მრავალეროვნული კომპანიის მიერ. ყველა ულტრასუფთა სპილენძის სამიზნე, რომელიც საჭიროა შიდა IC ინდუსტრიისთვის, უნდა იყოს იმპორტირებული, რაც არა მხოლოდ ძვირია, არამედ ...
    დაწვრილებით
  • მაღალი სისუფთავის ვოლფრამის სამიზნე ტექნოლოგია და გამოყენება

    მაღალი სისუფთავის ვოლფრამის სამიზნე ტექნოლოგია და გამოყენება

    ცეცხლგამძლე ვოლფრამის ლითონებსა და ვოლფრამის შენადნობებს აქვთ მაღალი ტემპერატურის სტაბილურობის, ელექტრონების მიგრაციისადმი მაღალი წინააღმდეგობის და ელექტრონის ემისიის მაღალი კოეფიციენტის უპირატესობა. მაღალი სისუფთავის ვოლფრამის და ვოლფრამის შენადნობის სამიზნეები ძირითადად გამოიყენება კარიბჭის ელექტროდების, შეერთების გაყვანილობის, დიფუზიის დასამზადებლად.
    დაწვრილებით
  • როგორია დაფარვის სამიზნე მასალის მახასიათებლები და ტექნიკური პრინციპები

    როგორია დაფარვის სამიზნე მასალის მახასიათებლები და ტექნიკური პრინციპები

    დაფარულ სამიზნეზე თხელი ფილმი სპეციალური მასალის ფორმისაა. სისქის კონკრეტული მიმართულებით მასშტაბი ძალიან მცირეა, რაც მიკროსკოპული გაზომვადი რაოდენობაა. გარდა ამისა, ფირის სისქის გარეგნობისა და ინტერფეისის გამო, მასალის უწყვეტობა წყდება, რაც ხდის ...
    დაწვრილებით
  • რა სახის კერამიკული სამიზნეები არსებობს

    რა სახის კერამიკული სამიზნეები არსებობს

    ელექტრონული ინდუსტრიის განვითარებით, მაღალტექნოლოგიური ინფორმაციადან თხელ ფილმებზე გადასვლა თანდათან ხდება და დაფარვის პერიოდი სწრაფად ხორციელდება. კერამიკულმა სამიზნემ, როგორც არამეტალური კინოინდუსტრიის განვითარების საფუძველმა, მიაღწია უპრეცედენტო განვითარებას და ბაზარზე ...
    დაწვრილებით