საბითუმო CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made მწარმოებელი და მიმწოდებელი

ქრომის ალუმინი

CrAl Alloy Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის PVD საფარი შეკვეთით დამზადებული გამორჩეული სურათი

მოკლე აღწერა:

კატეგორია	დისკები sputtering სამიზნე
ქიმიური ფორმულა	CrAl
კომპოზიცია	ქრომის ალუმინი
სიწმინდე	99.7%, 99.9%, 99.95%, 99.99%
ფორმა	ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული
წარმოების პროცესი	ვაკუუმის დნობა, PM
ხელმისაწვდომი ზომა	L≤2000mm, W≤200mm

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

ქრომის ალუმინის სამიზნეების დამზადება მოიცავს შემდეგ ნაბიჯებს:

1. ფხვნილი სახეხი და შერევა.

2. ცხელი იზოსტატიკური დაწნეხვის დამუშავება ნახევარფაბრიკატების მისაღებად.

3. ქრომის ალუმინის შენადნობის უხეში სამიზნე მასალის დამუშავება ქრომის ალუმინის შენადნობის სამიზნე მასალის მისაღებად.

CrAl დაფქვის სამიზნეების დეპონირების პროცესში წარმოიქმნება მყარი ალუმინის-ქრომ-ნიტრიდის (AlCrN) საფარი. ეს საფარი ავლენს მაღალ სიმტკიცეს და ჟანგვის წინააღმდეგობის თვისებებს მაღალ ტემპერატურაზეც კი. საჭრელები შეიძლება მუშაობდნენ მაღალ კვებაზე, რათა გაზარდონ პროდუქტიულობა და გაზარდონ ხარისხი CNC მანქანების გამოყენებისას.

ჩვენი ტიპიური AlCr სამიზნეები და მათი თვისებები

	Cr-70Alზე%	Cr-60Alზე%	Cr-50Alზე%
სისუფთავე (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
სიმჭიდროვე(გ/სმ³)	3.7	4.35	4.55
Gწვიმა ზომა(მკმ)	100/50	100/50	100/50
პროცესი	ჰიპ	ჰიპ	ჰიპ

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს ალუმინის ქრომის თხრილის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად. ჩვენს პროდუქტებს აქვთ შესანიშნავი მექანიკური თვისებები, ერთგვაროვანი სტრუქტურა, გაპრიალებული ზედაპირი დანაწევრების, ფორებისა და ბზარების გარეშე. დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.

წინა: CoFe შენადნობის დახშობის სამიზნე მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული

შემდეგი: AlSi შენადნობის დახშობის სამიზნე მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის PVD საფარი საბაჟო დამზადებულია