საბითუმო AlTi შენადნობის Sputtering Target მაღალი სისუფთავის მწარმოებელი და მიმწოდებელი

ალუმინის ტიტანი

AlTi შენადნობის Sputtering Target მაღალი სისუფთავის გამორჩეული სურათი

მოკლე აღწერა:

კატეგორია	დისკები sputtering სამიზნე
ქიმიური ფორმულა	AlTi
კომპოზიცია	ალუმინის ტიტანი
სიწმინდე	99.9%, 99.95%, 99.99%
ფორმა	ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული
წარმოების პროცესი	ვაკუუმის დნობა, PM
ხელმისაწვდომი ზომა	L≤2000mm, W≤200mm

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

სამიზნე ხარისხის მოთხოვნილება ჭუჭყიანი საფარისთვის უფრო მაღალია, ვიდრე ტრადიციული მასალების ინდუსტრიაში. სამიზნის ერთგვაროვანი მიკროსტრუქტურა პირდაპირ გავლენას ახდენს თხრილის შესრულებაზე. ჩვენ გვაქვს დასრულებული ხარისხის მართვის სისტემა და ვირჩევთ მაღალი სისუფთავის ნედლეულს და საფუძვლიანად ვურევთ მათ ჰომოგენურობის უზრუნველსაყოფად. ალუმინის ტიტანის შენადნობის დაფქვილი სამიზნე იწარმოება ვაკუუმური ცხელი დაჭერის მეთოდით.

ჩვენი ალუმინის ტიტანის სამიზნეები შეიძლება უზრუნველყონ გამორჩეული ჟანგვისადმი მდგრადი ნიტრიდის საფარი, ტიტანის ალუმინის ნიტრიდი (TiAlN). TiAlN არის ამჟამინდელი ძირითადი ფილმი, როგორც საჭრელი ხელსაწყოების, მოცურების ნაწილების და ტრიბო-საფარების ფილმი. მას აქვს მაღალი სიმტკიცე, გამძლეობა, აცვიათ მდგრადი შესრულება და დაჟანგვის ტემპერატურა.

ჩვენი ტიპიური AlTi სამიზნეები და მათი თვისებები

	Ti-75Al at%	Ti-70Al at%	Ti-67Al at%	Ti-60Al at%	Ti-50Al at%	Ti-30Al at%	Ti-20Al at%	Ti-14Al at%
სისუფთავე (%)	99.7	99.7	99.7	99.7	99.8/99.9	99.9	99.9	99.9
სიმჭიდროვე(გ/სმ³)	3.1	3.2	3.3	3.4	3.63/3.85	3.97	4.25	4.3
Gწვიმა ზომა(მკმ)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
პროცესი	ჰიპ	ჰიპ	ჰიპ	ჰიპ	ჰიპ/VAR	VAR	VAR	VAR

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს ალუმინის ტიტანის თხრილის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების მიხედვით. ჩვენ შეგვიძლია მოგაწოდოთ სხვადასხვა გეომეტრიული ფორმები: მილები, რკალის კათოდები, პლანშეტური ან შეკვეთით დამზადებული და ალუმინის ფართო პროპორციული დიაპაზონი. ჩვენს პროდუქტებს აქვთ შესანიშნავი მექანიკური თვისებები, ერთგვაროვანი მიკროსტრუქტურა, გაპრიალებული ზედაპირი დანაწევრების, ფორებისა და ბზარების გარეშე. დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.

წინა: AlNi შენადნობის დახშობის სამიზნე მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის PVD საფარი საბაჟო დამზადებულია

შემდეგი: AlTa Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის PVD საფარი შეკვეთით დამზადებული