V Sputtering Target High Purity lancip Film Pvd Coating Custom Made
Vanadium
Deskripsi Target Vanadium Sputtering
Vanadium minangka logam atos, ulet kanthi tampilan abu-abu keperakan. Iku harder saka umume logam lan nuduhake resistance karat apik marang alkalis lan asam. Titik lebur yaiku 1890 ℃, lan titik didih yaiku 3380 ℃. Nomer atom 23, lan bobot atom 50,9414. Nduweni struktur kubik sing fokus ing pasuryan lan negara oksidasi ing senyawa +5, +4, +3 lan +2. Wis titik leleh dhuwur, ductility, atose, lan resistance karat.
Vanadium digunakake sacara ekstensif ing pirang-pirang industri lan aplikasi, kayata mesin jet, pigura udara kacepetan dhuwur, reaktor nuklir lan paduan baja.
Target sputtering Vanadium kemurnian dhuwur minangka bahan kritis kanggo sel surya lan lapisan lensa optik.
Analisis Kimia
| Kemurnian | 99.7 | 99.9 | 99.95 | 99.99 |
| Fe | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 |
| Al | ≤0.2 | ≤0.05 | ≤0.03 | ≤0.01 |
| Si | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
| C | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| N | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| O | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.03 |
| Impurity ing total | ≤0.3 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
Vanadium Sputtering Target Packaging
Target sputter Vanadium kita kanthi jelas diwenehi tandha lan label eksternal kanggo njamin identifikasi lan kontrol kualitas sing efisien. Ati-ati banget kanggo ngindhari karusakan sing bisa disebabake sajrone panyimpenan utawa transportasi.
Entuk Kontak
Target sputtering vanadium RSM nawakake kemurnian lan konsistensi sing luar biasa. Padha kasedhiya ing macem-macem formulir, kemurnian, ukuran lan prices. Kita spesialis ing bahan lapisan film tipis kemurnian dhuwur kanthi sifat sing apik banget, uga kapadhetan sing paling dhuwur lan ukuran butir rata-rata sing paling cilik, kanggo lapisan die, dekorasi, bagean otomotif, kaca E kurang, sirkuit terpadu semikonduktor, resistor film tipis, tampilan grafis , aerospace, rekaman magnetik, layar tutul, sel surya film tipis lan aplikasi deposisi uap fisik (PVD) liyane. Kirimake pitakon kanggo rega saiki babagan target sputtering lan bahan deposisi liyane sing ora kadhaptar.
