Target kasebut nduweni pasar sing wiyar, area aplikasi lan pangembangan gedhe ing mangsa ngarep. Kanggo mbantu sampeyan luwih ngerti babagan fungsi target, ing ngisor iki insinyur RSM bakal ngenalake kanthi ringkes syarat fungsional utama target kasebut.
Kemurnian: kemurnian minangka salah sawijining indikator fungsional utama target, amarga kemurnian target nduweni pengaruh gedhe marang fungsi film. Nanging, ing aplikasi praktis, syarat kemurnian target uga beda. Contone, kanthi perkembangan industri mikroelektronik kanthi cepet, ukuran wafer silikon ditambahi saka 6 "nganti 8" dadi 12 ", lan ambane kabel dikurangi saka 0.5um dadi 0.25um, 0.18um utawa malah 0.13um. Sadurunge, 99.995% saka target kemurnian bisa nyukupi syarat proses 0.35umic, nalika nyiapake garis 0.18um mbutuhake 99.999% utawa malah 99.9999% saka target kemurnian.
Isi impurity: impurities ing padhet target lan oksigen lan uap banyu ing pori-pori minangka sumber polusi utama film setor. Target kanggo macem-macem tujuan duwe syarat sing beda kanggo isi impurity sing beda. Contone, target paduan aluminium lan aluminium murni sing digunakake ing industri semikonduktor duwe syarat khusus kanggo konten logam alkali lan konten unsur radioaktif.
Kapadhetan: kanggo nyuda pori-pori ing padhet target lan nambah fungsi film sputtering, target biasane kudu duwe Kapadhetan dhuwur. Kapadhetan target ora mung mengaruhi tingkat sputtering, nanging uga mengaruhi fungsi listrik lan optik film kasebut. Sing luwih dhuwur kapadhetan target, luwih apik fungsi film kasebut. Kajaba iku, Kapadhetan lan kekuatan saka target wis apik supaya target bisa luwih nampa kaku termal ing proses sputtering. Kapadhetan uga minangka salah sawijining indikator fungsional utama target.
Wektu kirim: Mei-20-2022