Panggunaan materi target sing akeh ing macem-macem profesi nggawe panjaluk materi target luwih dhuwur lan luwih dhuwur. Ing ngisor iki Kita bakal sedhela nepangaken kowe apa syarat fungsional utama saka target, hoping kanggo mbantu sampeyan.
Kemurnian: Kemurnian minangka salah sawijining indikator fungsional utama target, amarga kemurnian target nduweni pengaruh gedhe marang fungsi film. Nanging ing laku, kemurnian materi target ora padha. Contone, kanthi cepet saka Profesi microelectronics, Ukuran wafer silikon wis dikembangaké saka 6 ", 8" kanggo 12 ", lan wiring jembaré wis melorot saka 0.5um kanggo 0.25um, 0.18um lan malah 0.13um. Sawise 99.995% kemurnian target bisa nyukupi syarat teknologi 0.35UMIC. Preparation saka 0.18um line mbutuhake 99.999% utawa malah 99.9999% kemurnian materi target.
Kapadhetan: Kanggo nyuda porositas ing padhet target lan nambah fungsi film sputtering, target biasane kudu duwe kapadhetan dhuwur. Kapadhetan target ora mung mengaruhi tingkat sputtering nanging uga sifat listrik lan optik film kasebut. Kapadhetan target sing luwih dhuwur, luwih apik fungsi film. Kajaba iku, Kapadhetan lan kekuatan materi target tambah supaya luwih bisa nahan tekanan termal nalika sputtering. Kapadhetan uga minangka salah sawijining indikator fungsional penting saka zat target.
Isi impurity: impurities ing target ngalangi lan oksigen lan uap banyu ing pori-pori minangka sumber polusi utama saka film akumulasi. Bahan target sing beda-beda kanggo tujuan sing beda-beda duwe syarat sing beda kanggo isi impurity sing beda. Contone, target paduan aluminium lan aluminium murni sing digunakake ing industri semikonduktor duwe syarat khusus kanggo konten logam alkali lan konten unsur radioaktif.
Wektu kirim: Jun-06-2022