Cara nambah tingkat panggunaan bahan target molybdenum

Target molybdenum sputtered wis digunakake digunakake ing industri elektronik, sel surya, lapisan kaca, lan lapangan liyane amarga kaluwihan gawan sing. Kanthi pangembangan teknologi modern kanthi cepet ing miniaturisasi, integrasi, digitalisasi, lan intelijen, panggunaan target molibdenum bakal terus saya tambah, lan syarat kualitas uga bakal saya dhuwur. Dadi, kita kudu golek cara kanggo nambah tingkat pemanfaatan target molibdenum. Saiki, editor RSM bakal ngenalake sawetara cara kanggo nambah tingkat pemanfaatan target molibdenum sputtering kanggo kabeh wong.

1. Tambah coil elektromagnetik ing sisih mbalikke

Kanggo nambah tingkat pemanfaatan target molybdenum sputtered, coil elektromagnetik bisa ditambahake ing sisih mbalikke saka planar Magnetron sputtering target molybdenum, lan Magnetik kolom ing lumahing target molybdenum bisa tambah dening nambah saiki saka Koil elektromagnetik, supaya bisa nambah tingkat pemanfaatan target molybdenum.

2. Pilih materi target puteran tubular

Dibandhingake karo target flat, milih struktur target puteran tubular highlights kaluwihan substantif sawijining. Umumé, tingkat pemanfaatan target datar mung 30% nganti 50%, dene tingkat pemanfaatan target rotasi tubular bisa tekan luwih saka 80%. Menapa malih, nalika nggunakake tabung kothong puteran Magnetron sputtering target, wiwit target bisa muter watara tetep bar sembrani Déwan kabeh wektu, ora bakal redeposition ing lumahing sawijining, supaya urip saka target puteran umume luwih saka 5 kaping maneh. tinimbang target pesawat.

3. Ganti karo peralatan sputtering anyar

Kunci kanggo nambah tingkat panggunaan bahan target yaiku ngrampungake panggantos peralatan sputtering. Sajrone proses sputtering materi target sputtering molybdenum, bab siji enem saka atom sputtering bakal deposit ing tembok kamar vakum utawa krenjang sawise kenek dening ion hidrogen, nambah biaya reresik peralatan vakum lan downtime. Dadi ngganti peralatan sputtering anyar uga bisa mbantu ningkatake tingkat pemanfaatan target molybdenum sputtering.