Sasaran sputtering minangka bahan elektronik sing mbentuk film tipis kanthi nempelake zat kayata paduan utawa oksida logam menyang substrat elektronik ing tingkat atom. Antarane wong-wong mau, target sputtering kanggo film blackening digunakake kanggo mbentuk film ing EL organik utawa panel kristal Cairan kanggo blacken wiring lan ngurangi reflectance cahya katon (reflectance kurang) saka kabel TFT. Target sputter nduweni kaluwihan lan efek ing ngisor iki. Dibandhingake karo produk sadurunge, iku mbantu kanggo nambah jurusan dhuwure fineness lan desain kamardikan saka macem-macem tampilan, lan nyuda gangguan disebabake wiring dibayangke cahya saka produk semikonduktor related.
Kaluwihan lan efek saka target aluminium:
(1) Sawise target aluminium dibentuk ing kabel, cahya sing katon bisa dikurangi
dibandhingake karo produk sadurunge, iku bisa entuk bayangan kurang.
(2) DC sputtering bisa ditindakake tanpa gas reaktif
dibandhingake karo produk sadurungé, iku mbiyantu éling homogeneitas film saka substrat gedhe.
(3) Sawise film dibentuk, proses etsa bisa ditindakake bebarengan karo kabel
nyetel materi miturut proses etching ana customer, lan bisa etch bebarengan karo wiring tanpa ngganti proses ana. Kajaba iku, perusahaan uga bakal menehi dhukungan miturut kahanan sputtering pelanggan.
(4) resistance panas banget, banyu lan alkali resistance
Saliyane tahan banyu lan resistensi alkali, uga nduweni resistensi panas sing dhuwur, saengga karakteristik film kasebut ora bakal owah ing proses pangolahan kabel TFT.
Wektu kirim: Aug-10-2022