FeNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Wesi Nikel Sputtering Target diprodhuksi liwat Vacuum Melting, Casting lan PM. Nduwe permeabilitas magnetik sing dhuwur banget ing kekuwatan lapangan sing sithik.

Target Nikel Besi (Nikel>30 wt%) nduduhake struktur kubik sing fokus ing pasuryan ing suhu kamar. Nikel target wesi konvensional duwe luwih saka 36% komposisi Nikel, lan bisa dipérang dadi papat kategori: 35% ~ 40% Ni-Fe, 45% ~ 50% Ni-Fe, 50% ~ 65% Ni-Fe lan 70% ～ 81% Ni-Fe. Saben bisa digawe dadi bahan kanthi puteran histeresis magnetik bunder, persegi panjang, utawa bidang.

Target Sputtering Nikel Iron (Ni-Fe) digunakake ing macem-macem aplikasi, kayata media panyimpenan magnetik lan piranti pelindung EMI.

Rich Special Materials spesialisasi ing Pabrik Sputtering Target lan bisa ngasilake Iron Nickel Sputtering Materials miturut spesifikasi Pelanggan. Kita bisa nyedhiyakake kemurnian 99,99% lan komposisi khas: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%. Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.