CoNbZr Alloy Sputtering Target High Purity Tipis Film Pvd Coating Custom Made

Target sputter digawe saka bahan ferromagnetik kritis kanggo deposisi film tipis ing industri kayata panyimpenan data lan VLSI (integrasi skala gedhe banget) / semikonduktor. Kobalt Niobium Zirconium digawe kanthi nyawiji paduan ing lingkungan vakum lan casting sabanjure kanggo mbentuk wangun target sing dikarepake. Target sputtering alloy CoNbZr asring digunakake minangka sumber deposisi kanggo lapisan ferromagnetik ing produksi media panyimpenan magnetik lan lapisan transisi ing pabrikan baterei.

Bahan Khusus Sugih spesialisasi ing Pabrik Target Sputtering lan bisa ngasilake Bahan Sputtering Kobalt Niobium Zirconium miturut spesifikasi Pelanggan. Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.