ターゲットのパフォーマンス要件は何ですか

対象となる市場、応用範囲は広く、将来的には大きな発展が見込まれます。ターゲット機能をより深く理解していただくために、以下で RSM エンジニアがターゲットの主な機能要件を簡単に紹介します。

純度: ターゲットの純度はフィルムの機能に大きな影響を与えるため、純度はターゲットの主要な機能指標の 1 つです。ただし、実際の応用では、ターゲットの純度要件も異なります。例えば、マイクロエレクトロニクス産業の急速な発展に伴い、シリコンウェハのサイズは6インチから8インチ、12インチへと拡大し、配線幅は0.5μmから0.25μm、0.18μm、さらには0.13μmにまで減少しています。以前は、ターゲット純度の 99.995% で 0.35umic のプロセス要件を満たすことができましたが、0.18um ラインの調製にはターゲット純度の 99.999%、さらには 99.9999% が必要でした。

不純物含有量: ターゲット固体中の不純物、細孔内の酸素と水蒸気は、堆積膜の主な汚染源です。異なる目的のターゲットには、異なる不純物含有量に対する異なる要件があります。たとえば、半導体産業で使用される純アルミニウムおよびアルミニウム合金ターゲットには、アルカリ金属含有量と放射性元素含有量に関して特別な要件があります。

密度：ターゲット固体中の細孔を減らし、スパッタリング膜の機能を向上させるために、通常、ターゲットは高密度であることが要求されます。ターゲットの密度はスパッタリング速度に影響を与えるだけでなく、膜の電気的および光学的機能にも影響します。ターゲット密度が高いほど、フィルムの機能は向上します。さらに、ターゲットの密度と強度が向上するため、ターゲットはスパッタリングプロセスでの熱応力をよりよく受け入れることができます。密度もターゲットの重要な機能指標の 1 つです。