ターゲットの製造方法

ターゲットは電子情報産業でよく使用される材料の一種です。幅広い用途に使用されていますが、一般の人にはこの素材についてあまり知られていません。ターゲットの製造方法が気になる人も多いのでは？次に、RSM 技術部門の専門家がターゲットの製造方法を紹介します。

　　ターゲットの製造方法

1. 鋳造方法

鋳造法は、合金原料を一定の組成比で溶解し、溶解後に得られる合金溶液を鋳型に注入してインゴットを成形し、機械加工を経てターゲットを成形します。鋳造法は一般に真空中で溶解して鋳造する必要があります。一般的な鋳造方法には、真空誘導溶解、真空アーク溶解、真空電子衝撃溶解などがあります。その利点は、製造されるターゲットの不純物含有量が低く、高密度であり、大規模に製造できることです。欠点は、融点や密度に大きな差がある2種以上の金属を溶解する場合、従来の溶解方法では均一な組成の合金ターゲットを作製することが難しいことです。

　　2. 粉末冶金法

粉末冶金法とは、合金原料を一定の組成比で溶解し、溶解後に得られる合金溶液をインゴットに鋳造し、鋳造したインゴットを粉砕し、粉砕した粉末をプレス成形し、高温で焼結してターゲットを形成する方法です。この方法で作成されたターゲットには、組成が均一であるという利点があります。欠点は、密度が低く、不純物含有量が高いことです。一般的に使用される粉末冶金産業には、冷間プレス、真空ホットプレス、熱間静水圧プレスが含まれます。