高純度ジルコニウムスパッタリングターゲット

リッチ特殊マテリアル株式会社半導体、化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) ディスプレイおよび光学用途向けに、可能な限り高い密度と可能な限り小さい平均粒径を備えた高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲットを供給します。弊社の薄膜用標準スパッタリング ターゲットは、モノブロックまたはボンディングされた平面ターゲット寸法と最大 820 mm の構成で入手可能で、穴ドリル位置、ねじ切り、面取り、溝およびバッキングは、古いスパッタリング装置と最新のプロセス装置の両方で動作するように設計されています。太陽エネルギーや燃料電池、フリップチップ用途向けの大面積コーティングなど。研究用サイズのターゲットだけでなく、カスタム サイズや合金も製造されます。すべてのターゲットは、蛍光 X 線 (XRF) などの実証済みの技術を使用して分析されます。