スパッタリングターゲットとアルミターゲットの効果

スパッタリングターゲットは、合金や金属酸化物などの物質を電子基板に原子レベルで付着させて薄膜を形成する電子材料です。このうち黒色化膜用スパッタリングターゲットは、有機ELや液晶パネル上に配線を黒色化し、TFT配線の可視光反射率を低減(低反射)する膜を形成するために使用される。スパッタターゲットには次のような利点と効果があります。従来製品に比べ、各種ディスプレイの高精細化や設計自由度の向上、半導体関連製品の配線反射光によるノイズの低減に貢献します。

　　アルミニウムターゲットの利点と効果:

(1) 配線上にアルミターゲットを形成した後、可視光を低減できる

従来品に比べ低反射を実現しました。

(2) 反応性ガスを使用せずにDCスパッタリングが可能

従来品と比較して、大型基板の膜均一性の実現に役立ちます。

(3) 成膜後、配線と一緒にエッチング加工が可能

お客様の既存のエッチングプロセスに合わせて材料を調整し、既存のプロセスを変更することなく配線と一緒にエッチングすることが可能です。また、お客様のスパッタリング条件に応じたサポートも行ってまいります。

(4) 耐熱性、耐水性、耐アルカリ性に優れています。

耐水性、耐アルカリ性に加え、耐熱性も高いため、TFT配線加工工程においてもフィルムの特性が変化しません。