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クロム

Cr スパッタリングターゲット高純度薄膜 PVD コーティングカスタムメイドの注目の画像

簡単な説明:

カテゴリ	金属スパッタリングターゲット
化学式	Cr
構成	クロム
純度	99.9%、99.95%、99.99%
形	プレート，カラムターゲット，アークカソード，カスタムメイド
製造工程	PM
利用可能なサイズ	長さ≤2000mm、W L≦300mm

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バナジウムスパッタリングターゲットの説明

クロムは、青色がかった硬くて銀色の金属です。純クロムは延性と硬度に優れています。密度は7.20g/cm3、融点は1907℃、沸点は2671℃です。クロムは非常に耐食性が高く、高温でも酸化速度が低いです。クロム金属は、酸化クロムからのアルミノテルミックプロセス、またはフェロクロムまたはクロム酸を使用した電解プロセスを通じて生成されます。

高純度クロムスパッタリングターゲットは一般用途に使用できます。クロムターゲットによって堆積されたコーティングは、優れた強度と耐摩耗性を示します。

さまざまな純度のクロムを供給できます

P尿意	I純度(ppm)≤
	Fe	Si	Al	C	N	O	S
99.2	3000	2500	2000	200	500	2000	100
99.5	2000	2000	1200	200	500	1500	100
99.7	1200	1000	1000	200	300	1200	100
99.8	1000	800	600	200	200	1000	100
99.9	500	200	300	150	100	500	50
99.95	200	100	100	100	100	300	50

クロムスパッタリングターゲットの用途

クロムスパッタターゲットは、自動車のガラスコーティング、太陽電池製造、電池製造、燃料電池、装飾コーティングや耐食コーティングなど、多くの真空用途で使用されています。クロムスパッタリングターゲットは、他の光情報記憶空間産業と同様に、CD-ROM、薄膜蒸着装飾、フラットパネルディスプレイ、機能性コーティングなどに使用されます。

クロムスパッタリングターゲットのパッケージング

当社のクロムスパッタターゲットには、効率的な識別と品質管理を確保するために、外部に明確にタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を避けるために細心の注意を払っています。

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RSM のクロムスパッタリングターゲットは、超高純度で均一です。これらは、さまざまな形式、純度、サイズ、価格で入手できます。当社は、金型コーティング、装飾、自動車部品、Low-E ガラス、半導体集積回路、薄膜などに使用される、優れた性能、最高の密度、可能な限り小さい平均粒子サイズを備えた高純度の薄膜コーティング材料の製造を専門としています。抵抗、グラフィックディスプレイ、航空宇宙、磁気記録、タッチスクリーン、薄膜太陽電池およびその他の物理蒸着 (PVD) アプリケーション。リストにないスパッタリングターゲットやその他の蒸着材料の現在の価格についてはお問い合わせください。