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CoNbZr 合金スパッタリング ターゲット高純度薄膜 Pvd コーティングのカスタムメイド

コバルト・ニオブ・ジルコニウム

簡単な説明:

カテゴリ

合金スパッタリングターゲット

化学式

CoNbZr

構成

コバルト・ニオブ・ジルコニウム

純度

99.9%、99.95%、99.99%

プレート,カラムターゲット,アークカソード,カスタムメイド

製造工程

真空溶解

利用可能なサイズ

長さ≤200mm、幅≤200mm


製品詳細

製品タグ

強磁性材料で作られたスパッタターゲットは、データストレージやVLSI(超大規模集積回路)/半導体などの産業における薄膜堆積に不可欠です。コバルト ニオブ ジルコニウムは、真空環境で合金を溶解し、その後鋳造して目的のターゲット形状を形成することによって製造されます。 CoNbZr 合金スパッタリングターゲットは、磁気記憶媒体の製造における強磁性層や電池製造における遷移層の堆積源としてよく使用されます。

リッチスペシャルマテリアルズはスパッタリングターゲットの製造を専門としており、お客様の仕様に応じてコバルトニオブジルコニウムスパッタリング材料を生産することができます。詳細については、お問い合わせください。


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