CoNbZr 合金スパッタリング ターゲット高純度薄膜 Pvd コーティングのカスタムメイド
コバルト・ニオブ・ジルコニウム
強磁性材料で作られたスパッタターゲットは、データストレージやVLSI(超大規模集積回路)/半導体などの産業における薄膜堆積に不可欠です。コバルト ニオブ ジルコニウムは、真空環境で合金を溶解し、その後鋳造して目的のターゲット形状を形成することによって製造されます。 CoNbZr 合金スパッタリングターゲットは、磁気記憶媒体の製造における強磁性層や電池製造における遷移層の堆積源としてよく使用されます。
リッチスペシャルマテリアルズはスパッタリングターゲットの製造を専門としており、お客様の仕様に応じてコバルトニオブジルコニウムスパッタリング材料を生産することができます。詳細については、お問い合わせください。