TiTa Sputtering Target טוהר גבוה סרט דק Pvd ציפוי בהתאמה אישית

מטרת הקזת טנטלום טיטניום מיוצרת באמצעות התכה ויציקה. סגסוגת Ti-Ta היא חומר קריטי לרכיב מכשיר לסילוק פסולת גרעינית. יש לו גם תכונה מכנית מעולה, שהיא השיקול הראשון בשימוש בו כחומרי השתלות אורטופדיים. חוץ מזה, ציפוי TiTaN נמצא בשימוש נרחב בתעשיית כלי חיתוך תבניות בשל עמידות הבלאי והקורוזיה המצוינת שלו.

Rich Special Materials היא יצרנית של Sputtering Target ויכולה לייצר חומרי Sputtering Titanium Tantalum לפי מפרט הלקוחות. למידע נוסף, אנא צור איתנו קשר.