AlNi סגסוגת מקרטעת יעד טוהר גבוה סרט דק PVD ציפוי בהתאמה אישית

מטרת קפיצת סגסוגת ניקל אלומיניום מופקת באמצעות התכת ואקום ומטלורגיית כוח. ערבוב אלומיניום וניקל בכמות הדרושה כדי לספק מטיל יציקת AlNi. לאחר מכן חותכים את מטיל היציקה ליצירת צורת המטרה הרצויה. יש לו עקביות גבוהה, גודל גרגר מעודן ומבנה מיקרו הומוגני, ללא נפיחות גז או נקבוביות.

הודות לשילוב המצוין שלו בין הציפוי לחומר המצע, לציפוי AlNi יש ביצועים טובים מתחת ל-700℃. כעת נעשה שימוש נרחב במטרת הקזת AlNi בציפויים עמידים בפני שחיקה, כולל כלי חיתוך, תבניות, תעשיות רכב ובנייה.

Rich Special Materials היא יצרנית של Sputtering Target ויכולה לייצר חומרי Sputtering ניקל אלומיניום על פי מפרט הלקוחות. למידע נוסף, אנא צור איתנו קשר.