הבדלים בין טכנולוגיית הקפיצה למטרת הקפיצה והיישומים שלהם

כולנו יודעים שקפיצה היא אחת הטכנולוגיות העיקריות להכנת חומרי סרט. הוא משתמש ביונים המיוצרים על ידי מקור היונים כדי להאיץ את הצבירה בוואקום ליצירת אלומת יונים במהירות גבוהה, להפציץ את המשטח המוצק, והיונים מחליפים אנרגיה קינטית עם האטומים על המשטח המוצק, כך שהאטומים על המוצק משטח להשאיר את המוצק ולהפקיד על משטח המצע. המוצק המופגז הוא חומר הגלם להפקדת הסרט על ידי קפיצה, הנקראת מקרטעת מטרה.

סוגים שונים של חומרי סרט מקרטע היו בשימוש נרחב במעגלים משולבים מוליכים למחצה, מדיה הקלטה, תצוגה מישורית, ציפוי משטח כלי ומשטחים וכן הלאה.

מטרות הקפיצה משמשות בעיקר בתעשיות אלקטרוניות ומידע, כגון מעגלים משולבים, אחסון מידע, צגי גביש נוזלי, זיכרונות לייזר, ציוד בקרה אלקטרוני וכו'; ניתן להשתמש בו גם בתחום ציפוי זכוכית; זה יכול לשמש גם בחומרים עמידים בפני שחיקה, עמידות בפני קורוזיה בטמפרטורה גבוהה, מוצרים דקורטיביים מתקדמים ותעשיות אחרות.

ישנם סוגים רבים של מטרות מקרטעות, וישנן שיטות שונות לסיווג מטרות:

על פי ההרכב, ניתן לחלק אותו למטרה מתכת, יעד מסגסוגת ומטרת תרכובת קרמית.

על פי הצורה ניתן לחלק אותו למטרה ארוכה, מטרה מרובעת ומטרה עגולה.

ניתן לחלק אותו למטרה מיקרואלקטרונית, יעד הקלטה מגנטית, יעד דיסק אופטי, יעד מתכת יקרה, יעד התנגדות סרט, יעד סרט מוליך, יעד שינוי פני השטח, יעד מסיכה, יעד שכבה דקורטיבית, יעד אלקטרודה ומטרות אחרות בהתאם לתחום היישום.

על פי יישומים שונים, ניתן לחלק אותו למטרות קרמיות הקשורות למוליכים למחצה, הקלטת מטרות קרמיות בינוניות, מטרות קרמיות לתצוגה, מטרות קרמיות מוליכות-על ומטרות קרמיות ענקיות עמידות מגנטיות.