מאפיינים של מטרות קפיצת אלומיניום בטוהר גבוה במיוחד

בשנים האחרונות, עם התקדמות טכנולוגיית המעגל המשולב (IC), היישומים הקשורים למעגלים משולבים פותחו במהירות. מטרת קפיצת סגסוגת אלומיניום בטוהר גבוה במיוחד, כחומר תומך בייצור חיבורי מתכת משולבים במעגלים משולבים, הפכה לנושא חם במחקרים מקומיים עדכניים. העורך של RSM יראה לנו את המאפיינים של מטרת קפיצת סגסוגת אלומיניום בטוהר גבוה.

על מנת לשפר עוד יותר את יעילות הקפיצה של מטרת הקזת המגנטרון ולהבטיח את האיכות של הסרטים שהופקדו, מספר רב של ניסויים מראים שיש דרישות מסוימות להרכב, למבנה המיקרו ולכיוון התבואה של מטרת הקזת סגסוגת האלומיניום בטוהר גבוה במיוחד.

לגודל הגרגר ולכיוון התבואה של המטרה יש השפעה רבה על ההכנה והמאפיינים של סרטי IC. התוצאות מראות שקצב השקיעה יורד עם הגידול בגודל הגרגיר; עבור מטרת הקפיצה עם אותו הרכב, קצב הקפיצה של המטרה עם גודל גרגר קטן מהיר יותר מזה של המטרה עם גודל גרגר גדול; ככל שגודל הגרגירים של המטרה אחיד יותר, כך פיזור העובי של הסרטים המופקדים אחיד יותר.

תחת אותם פרמטרים של מכשיר קפיצה ופרמטרים, קצב הקפיצה של יעד סגסוגת Al Cu גדל עם עליית הצפיפות האטומית, אך הוא יציב בדרך כלל בטווח. השפעת גודל הגרגר על קצב הקפיצה נובעת משינוי הצפיפות האטומית עם השינוי בגודל הגרגר; קצב התצהיר מושפע בעיקר מכיוון התבואה של יעד סגסוגת Al Cu. על בסיס הבטחת הפרופורציה של (200) מישורי גביש, הגדלת הפרופורציה של (111), (220) ו-(311) מישורי גביש תגדיל את קצב התצהיר.

גודל הגרגירים וכיוון הגרגר של מטרות סגסוגת אלומיניום בטוהר גבוה במיוחד מותאמים ונשלטים בעיקר על ידי הומוגניזציה של מטיל, עבודה חמה וחישול מחדש. עם הפיתוח של גודל פרוסות ל-20.32 ס"מ (8 אינץ') ו-30.48 ס"מ (12 אינץ'), גם גודל היעד הולך וגדל, מה שמציב דרישות גבוהות יותר למטרות קפיצת סגסוגת אלומיניום בטוהר גבוה במיוחד. על מנת להבטיח את איכות הסרט והתפוקה, יש לשלוט בקפדנות על פרמטרי עיבוד היעד כדי להפוך את מבנה המיקרו של היעד לאחיד ולכיוון הגרגר חייב להיות מרקמי מישור חזק (200) ו-(220).