Pezzi di siliciuro di tungsteno

Il siliciuro di tungsteno WSi2 viene utilizzato come materiale per scosse elettriche nella microelettronica, smistamento su fili di polisilicio, rivestimento antiossidante e rivestimento di fili di resistenza. Il siliciuro di tungsteno è utilizzato come materiale di contatto nella microelettronica, con una resistività di 60-80μΩcm. Si forma a 1000°C. Di solito viene utilizzato come shunt per le linee di polisilicio per aumentarne la conduttività e aumentare la velocità del segnale. Lo strato di siliciuro di tungsteno può essere preparato mediante deposizione di vapore chimico, come la deposizione di vapore. Utilizzare monosilano o diclorosilano e esafluoruro di tungsteno come gas di materia prima. Il film depositato non è stechiometrico e richiede ricottura per essere trasformato in una forma stechiometrica più conduttiva.

Il siliciuro di tungsteno può sostituire la precedente pellicola di tungsteno. Il siliciuro di tungsteno viene utilizzato anche come strato barriera tra il silicio e altri metalli.

Il siliciuro di tungsteno è molto prezioso anche nei sistemi microelettromeccanici, tra i quali il siliciuro di tungsteno viene utilizzato principalmente come pellicola sottile per la produzione di microcircuiti. A questo scopo la pellicola di siliciuro di tungsteno può essere mordenzata al plasma utilizzando ad esempio siliciuro.

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