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Rivestimento in Pvd a film sottile ad alta purezza TiAl Sputtering Target Realizzato su misura

Alluminio Titanio

Breve descrizione:

Categoria

Bersaglio sputtering in lega

Formula chimica

TiAl

Composizione

Alluminio Titanio

Purezza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Piastre, bersagli a colonna, catodi ad arco, su misura

Processo di produzione

Fusione sotto vuoto, PM

Misura disponibile

L ≤ 2000 mm, L ≤ 200 mm


Dettagli del prodotto

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Descrizione del bersaglio sputtering in alluminio e titanio

Il requisito della qualità target per il rivestimento sputtering è superiore a quello dell'industria dei materiali tradizionali. La microstruttura uniforme del target influisce direttamente sulle prestazioni di sputtering. Disponiamo di un sistema di gestione della qualità completo e selezioniamo materie prime di elevata purezza e le mescoliamo accuratamente per garantire l'omogeneità. Il bersaglio di sputtering in lega di alluminio e titanio viene prodotto mediante il metodo di pressatura a caldo sotto vuoto.

I nostri target di sputtering in titanio e alluminio potrebbero fornire un eccezionale rivestimento in nitruro resistente all'ossidazione, il nitruro di titanio e alluminio (TiAlN). TiAlN è l'attuale mainstream come film per utensili da taglio, parti scorrevoli e tribo-rivestimenti. Ha elevata durezza, tenacità, prestazioni resistenti all'usura e temperatura di ossidazione.

I nostri tipici target TiAl e le loro proprietà

Ti-75Al%

Ti-70Al%

Ti-67Al%

Ti-60Al%

Ti-50Al%

Ti-30Al%

Ti-20Al%

Ti-14Al%

Purezza (%)

99,7

99,7

99,7

99,7

99,8/99,9

99,9

99,9

99,9

Densitàg/cm3

3.1

3.2

3.3

3.4

3,63/3,85

3,97

4.25

4.3

Gpiovere Misurare(μm)

100

100

100

100

100/-

-

-

-

Processo

ANCA

ANCA

ANCA

ANCA

ANCA/VAR

VAR

VAR

VAR

Imballaggio target sputtering in alluminio e titanio

Il nostro target di sputtering in alluminio e titanio è chiaramente contrassegnato ed etichettato esternamente per garantire un'identificazione e un controllo di qualità efficienti. Viene prestata la massima attenzione per evitare eventuali danni che potrebbero essere causati durante lo stoccaggio o il trasporto.

Ottieni contatto

I target di sputtering in alluminio e titanio di RSM sono di altissima purezza e uniformi. Sono disponibili in varie forme, purezze, dimensioni e prezzi.
Potremmo fornire una varietà di forme geometriche: tubi, catodi ad arco, planari o su misura, e un'ampia gamma di proporzioni di alluminio. I nostri prodotti sono caratterizzati da eccellenti proprietà meccaniche, microstruttura omogenea, superficie lucida senza segregazione, pori o crepe.
Siamo specializzati nella produzione di materiali di rivestimento a film sottile di elevata purezza con prestazioni eccellenti nonché la massima densità possibile e dimensioni medie dei grani più piccole possibili per l'uso nel rivestimento di stampi, decorazioni, parti di automobili, vetro a bassa emissività, circuiti integrati a semiconduttori, film sottile resistenza, display grafico, settore aerospaziale, registrazione magnetica, touch screen, batteria solare a film sottile e altre applicazioni di deposizione fisica in fase di vapore (PVD). Vi preghiamo di inviarci una richiesta per i prezzi attuali sugli obiettivi di sputtering e altri materiali di deposizione non elencati.

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