Produttore e fornitore su misura di rivestimento in Pvd a film sottile ad alta purezza NiFe Sputtering Target all'ingrosso

Ferro-nichel

NiFe Sputtering Target Rivestimento in Pvd a film sottile ad elevata purezza Immagine in primo piano personalizzata

Breve descrizione:

Categoria	Bersaglio sputtering in lega
Formula chimica	NiFe
Composizione	Ferro-nichel
Purezza	99,9%, 99,95%, 99,99%
Forma	Piastre, bersagli a colonna, catodi ad arco, su misura
Processo di produzione	Fusione sotto vuoto, PM
Misura disponibile	L ≤ 2000 mm, L ≤ 300 mm

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Descrizione del bersaglio dello sputtering al nichel-ferro

Il bersaglio per sputtering al nichel-ferro è prodotto mediante fusione sotto vuoto, fusione e PM. Ha una permeabilità magnetica molto elevata a bassa intensità di campo.
Un target di ferro e nichel (nichel>30% in peso) dimostra la struttura cubica centrata sulla faccia a temperatura ambiente. Convenzionalmente gli obiettivi di nichel-ferro hanno una composizione di nichel superiore al 36% e possono essere suddivisi in quattro categorie: 35%～40% Ni-Fe、45%～50% Ni-Fe、50%～65% Ni-Fe e 70% ~81% Ni-Fe. Ciascuno potrebbe essere trasformato in materiali con circuiti di isteresi magnetica circolari, rettangolari o piani.
I target sputtering al nichel ferro (Ni-Fe) sono utilizzati in un'ampia gamma di applicazioni, ad esempio supporti di memorizzazione magnetici e dispositivi di schermatura EMI.

Imballaggio target per sputtering di ferro e nichel

Il nostro target per sputtering di nichel ferro è chiaramente contrassegnato ed etichettato esternamente per garantire un'identificazione e un controllo di qualità efficienti. Viene prestata la massima attenzione per evitare eventuali danni che potrebbero essere causati durante lo stoccaggio o il trasporto.

Ottieni contatto

Gli obiettivi di sputtering di ferro-nichel di RSM sono di altissima purezza e uniformi. Sono disponibili in varie forme, purezze, dimensioni e prezzi. Potremmo fornire una purezza del 99,99% e le nostre composizioni tipiche: Ni-Fe10at%、N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.
Siamo specializzati nella produzione di materiali di rivestimento a film sottile di elevata purezza con prestazioni eccellenti nonché la massima densità possibile e dimensioni medie dei grani più piccole possibili per l'uso nel rivestimento di stampi, decorazioni, parti di automobili, vetro a bassa emissività, circuiti integrati a semiconduttori, film sottile resistenza, display grafico, settore aerospaziale, registrazione magnetica, touch screen, batteria solare a film sottile e altre applicazioni di deposizione fisica in fase di vapore (PVD). Vi preghiamo di inviarci una richiesta per i prezzi attuali sugli obiettivi di sputtering e altri materiali di deposizione non elencati.