L'obiettivo ha un ampio mercato, un'area di applicazione e un grande sviluppo in futuro. Per aiutarvi a comprendere meglio le funzioni del target, di seguito l'ingegnere RSM introdurrà brevemente i principali requisiti funzionali del target.
Purezza: la purezza è uno dei principali indicatori funzionali del target, poiché la purezza del target ha un grande impatto sulla funzione del film. Tuttavia, nell'applicazione pratica, anche i requisiti di purezza del target sono diversi. Ad esempio, con il rapido sviluppo dell’industria microelettronica, la dimensione del wafer di silicio viene ampliata da 6 “a 8” a 12 “e la larghezza del cablaggio viene ridotta da 0,5um a 0,25um, 0,18um o addirittura 0,13um. In precedenza, il 99,995% della purezza target poteva soddisfare i requisiti di processo di 0,35umic, mentre la preparazione di linee da 0,18um richiedeva il 99,999% o addirittura il 99,9999% della purezza target.
Contenuto di impurità: le impurità nei solidi target e l'ossigeno e il vapore acqueo nei pori sono le principali fonti di inquinamento dei film depositati. Obiettivi per scopi diversi hanno requisiti diversi per diversi contenuti di impurità. Ad esempio, i target in alluminio puro e leghe di alluminio utilizzati nell'industria dei semiconduttori hanno requisiti speciali per il contenuto di metalli alcalini e il contenuto di elementi radioattivi.
Densità: per ridurre i pori nel solido target e migliorare la funzione della pellicola di sputtering, di solito è necessario che il target abbia un'alta densità. La densità del target non influisce solo sulla velocità di sputtering, ma influisce anche sulle funzioni elettriche e ottiche della pellicola. Maggiore è la densità target, migliore è la funzione della pellicola. Inoltre, la densità e la resistenza del target vengono migliorate in modo che il target possa accettare meglio lo stress termico nel processo di sputtering. La densità è anche uno degli indicatori funzionali chiave dell’obiettivo.
Orario di pubblicazione: 20 maggio 2022