I materiali target spruzzati hanno requisiti elevati durante l'uso, non solo per la purezza e la dimensione delle particelle, ma anche per la dimensione delle particelle uniforme. Questi elevati requisiti ci spingono a prestare maggiore attenzione quando si utilizzano materiali target per lo sputtering.
1. Preparazione allo sputtering
È molto importante mantenere la pulizia della camera a vuoto, in particolare del sistema di sputtering. Lubrificanti, polvere e qualsiasi residuo di rivestimenti precedenti possono accumulare sostanze inquinanti come l'acqua, influenzando direttamente il vuoto e aumentando la probabilità di mancata formazione della pellicola. Cortocircuiti, archi sul bersaglio, superfici ruvide che formano pellicole e impurità chimiche eccessive sono generalmente causati da camere di sputtering, pistole e bersagli sporchi.
Per mantenere le caratteristiche compositive del rivestimento, il gas sputtering (argon o ossigeno) deve essere pulito e asciutto. Dopo aver installato il substrato nella camera di sputtering, è necessario estrarre l'aria per raggiungere il livello di vuoto richiesto per il processo.
2. Pulizia del bersaglio
Lo scopo della pulizia del target è rimuovere la polvere o lo sporco eventualmente presenti sulla superficie del target.
3. Installazione di destinazione
La cosa più importante a cui prestare attenzione durante il processo di installazione del materiale target è garantire una buona connessione termica tra il materiale target e la parete di raffreddamento della pistola a spruzzo. Se la parete di raffreddamento o la piastra posteriore sono gravemente deformate, potrebbero verificarsi crepe o piegature durante l'installazione del materiale target. Il trasferimento di calore dal target posteriore al materiale target sarà notevolmente influenzato, con conseguente incapacità di dissipare il calore durante lo sputtering, con conseguente rottura o deviazione del materiale target.
4. Cortocircuito e ispezione della tenuta
Dopo l'installazione del materiale target, è necessario verificare il cortocircuito e la tenuta dell'intero catodo. Si consiglia di utilizzare un ohmmetro e un megaohmmetro per determinare se il catodo è in cortocircuito. Dopo aver confermato che il catodo non è in cortocircuito, è possibile eseguire un rilevamento delle perdite iniettando acqua nel catodo per determinare se vi sono perdite.
5. Pre-sputtering del materiale target
Si consiglia di utilizzare gas argon puro per il pre-sputtering del materiale target, che può pulire la superficie del materiale target. Si consiglia di aumentare lentamente la potenza di sputtering durante il processo di pre-sputtering per il materiale target. La potenza del materiale target in ceramica
Orario di pubblicazione: 19 ottobre 2023