Il molibdeno è un elemento metallico, utilizzato principalmente nell'industria del ferro e dell'acciaio, la maggior parte del quale viene utilizzato direttamente nella produzione dell'acciaio o della ghisa dopo la pressatura dell'ossido di molibdeno industriale, e una piccola parte viene fusa in ferro molibdeno e quindi utilizzata nell'acciaio fabbricazione. Può migliorare la resistenza, la durezza, la saldabilità e la tenacità della lega, ma anche migliorarne la resistenza alle alte temperature e alla corrosione. Quindi in quali campi vengono utilizzati gli obiettivi di sputtering di molibdeno? Quella che segue è la condivisione dell'editore di RSM.
Applicazione del materiale target per lo sputtering al molibdeno
Nell'industria elettronica, il bersaglio di sputtering al molibdeno viene utilizzato principalmente nei display piatti, negli elettrodi delle celle solari a film sottile, nei materiali di cablaggio e nei materiali barriera dei semiconduttori. Questi si basano sull'elevato punto di fusione del molibdeno, sull'elevata conduttività elettrica, sulla bassa impedenza specifica, sulla migliore resistenza alla corrosione e sulle buone prestazioni ambientali.
Il molibdeno è uno dei materiali preferiti per gli obiettivi di sputtering dei display piatti grazie ai vantaggi di solo metà dell'impedenza e dello stress della pellicola rispetto al cromo e all'assenza di inquinamento ambientale. Inoltre, l'uso del molibdeno nei componenti LCD può migliorare notevolmente le prestazioni dell'LCD in termini di luminosità, contrasto, colore e durata.
Nel settore dei display a schermo piatto, una delle principali applicazioni di mercato del target dello sputtering al molibdeno è il TFT-LCD. Le ricerche di mercato indicano che i prossimi anni rappresenteranno il picco dello sviluppo degli LCD, con un tasso di crescita annuo di circa il 30%. Con lo sviluppo degli LCD, anche il consumo degli obiettivi di sputtering degli LCD aumenta rapidamente, con un tasso di crescita annuo di circa il 20%. Nel 2006, la domanda globale di materiale target per lo sputtering di molibdeno era di circa 700 tonnellate e nel 2007 era di circa 900 tonnellate.
Oltre al settore dei display a schermo piatto, con lo sviluppo del nuovo settore energetico, è in aumento l'applicazione del target sputtering di molibdeno nelle celle solari fotovoltaiche a film sottile. Lo strato di elettrodi della batteria a film sottile CIGS (Cu indio gallio selenio) si forma sul bersaglio dello sputtering di molibdeno mediante sputtering.
Orario di pubblicazione: 16 luglio 2022