Il consulente tecnico di RSM condividerà con voi i vantaggi degli obiettivi sputtering magnetron cilindrici e planari? Rispetto ad altri target di sputtering con magnetron, i target di sputtering con magnetron cilindrici e planari mantengono i vantaggi di una buona uniformità di rivestimento dei target planari rettangolari e possono massimizzare l'utilizzo dei target nei due modi seguenti:
(1) Quando i due gruppi (quattro) di cavità anulari sulla superficie del bersaglio raggiungono una certa profondità, il nucleo del bersaglio (parte magnetica) può essere ruotato di 45° rispetto al tubo bersaglio, in modo che altre aree sul tubo bersaglio che non siano stati corrosi possono essere utilizzati;
(2) Quando il nucleo del bersaglio del magnetron sputtering cilindrico e planare è progettato come un nucleo del bersaglio rotante (il nucleo del bersaglio ruota durante lo sputtering), la superficie del bersaglio può essere uniformemente spruzzata strato per strato senza cavità. In questo momento, l'obiettivo verrà utilizzato nel modo più efficace e il tasso di utilizzo dell'obiettivo può raggiungere il 50% ~ 60%. Quando il materiale target è un metallo prezioso, questo è ovviamente di grande importanza.
Utilizzando il principio del magnete con scarpa polare nel bersaglio di sputtering del magnetron cilindrico coassiale per risolvere il problema del campo magnetico finale, il bersaglio piano rettangolare può essere trasformato in un bersaglio di sputtering del magnetron cilindrico e planare. Il bersaglio può massimizzare il tasso di utilizzo del bersaglio mantenendo la buona uniformità del rivestimento del bersaglio piano rettangolare in modo da migliorare i vantaggi economici.
Orario di pubblicazione: 04-lug-2022