Heildverslun WMo sputtering Target High Purity Thin Film Pvd húðun Sérsmíðuð Framleiðandi og birgir

Tungsten mólýbden álfelgur sputtering Target

WMo sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Sérsmíðuð Valin mynd

Stutt lýsing:

Flokkur	Alloy sputtering Target
Efnaformúla	WMo
Samsetning	Volfram mólýbden
Hreinleiki	99,9%，99,95%，99,99%
Lögun	Plötur, dálkamiðar, bogaskautar, sérsniðnar
Framleiðsluferli	Tómarúmsbræðsla ， PM
Stærð í boði	L≤200mm, B≤200mm

Sendu tölvupóst til okkar

Upplýsingar um vöru

Vörumerki

Volfram mólýbden sputtering marklýsing

Tungsten mólýbden sputtering target er tegund af málmblendi sputtering target sem samanstendur af mólýbdeni og wolfram.

Mólýbden er efnafræðilegt frumefni sem er upprunnið úr grísku 'molybdos' sem þýðir blý. Það var fyrst nefnt árið 1778 og skoðað af W. Scheele. Einangruninni var síðar náð og tilkynnt af J. Hjelm. „Mo“ er kanónískt efnatákn mólýbdens. Atómnúmer þess í lotukerfinu er 42 með staðsetningu á tímabili 5 og hópi 6, sem tilheyrir d-reitnum. Hlutfallslegur atómmassi mólýbdens er 95,94(2) Dalton, talan í sviga gefur til kynna óvissuna.

Volfram, einnig kallað wolfram; wolframium, er efnafræðilegt frumefni sem er upprunnið úr sænska 'tung sten' sem þýðir þungur steinn (W er wolfram, gamla nafnið á wolfram steinefninu wolframite). Það var fyrst getið árið 1781 og T. Bergman sá. Einangruninni var síðar náð og tilkynnt af J. og F. Elhuyar. „W“ er kanónískt efnatákn wolfram. Atómnúmer þess í lotukerfinu er 74 með staðsetningu á tímabili 6 og hópi 6, sem tilheyrir d-reitnum. Hlutfallslegur atómmassi wolframs er 183,84(1) Dalton, talan í sviga gefur til kynna óvissuna.

Volfram mólýbden markpakkning

Tungsten mólýbden sputter markið okkar er greinilega merkt og merkt að utan til að tryggja skilvirka auðkenningu og gæðaeftirlit. Mikil aðgát er höfð til að forðast skemmdir sem gætu orðið við geymslu eða flutning.

Fáðu samband

Wolfram mólýbden sputtering markmið RSM eru af mjög miklum hreinleika og einsleitum. Þau eru fáanleg í ýmsum gerðum, hreinleika, stærðum og verði. Við sérhæfum okkur í að framleiða háhreint þunnfilmuhúðunarefni með framúrskarandi frammistöðu sem og hæsta mögulega þéttleika og minnstu mögulegu meðalkornstærð til notkunar í moldhúðun、skreytingar、bílahlutar、low-E gler、hálfleiðara samþætt hringrás、þunn filma viðnám, grafískur skjár, loftrými, segulmagnaðir upptökur, snertiskjár, þunn filmu sólarrafhlaða og önnur líkamleg gufa útfellingar (PVD) umsóknir. Vinsamlegast sendu okkur fyrirspurn um núverandi verðlagningu á sputtering skotmörk og önnur útfellingarefni sem ekki eru skráð.

Fyrri: WRe sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Sérsniðin

Næst: WNi sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Sérsniðin