Volfram kísilefnisstykki

Volframkísilíð WSi2 er notað sem rafstuðsefni í öreindatækni, shunting á pólýkísilvíra, andoxunarhúð og viðnámsvírhúð. Volframkísilíð er notað sem snertiefni í öreindatækni, með viðnám 60-80μΩcm. Það myndast við 1000°C. Það er venjulega notað sem shunt fyrir pólýkísillínur til að auka leiðni þess og auka merkjahraða. Wolfram kísillagið er hægt að útbúa með efnagufuútfellingu, svo sem gufuútfellingu. Notaðu mónósílan eða díklórsílan og wolframhexaflúoríð sem hráefnisgas. Hin útfellda filma er ekki stoichiometric og krefst glæðingar til að breytast í meira leiðandi stoichiometric form.

Volframkísilíð getur komið í stað fyrri wolframfilmunnar. Volframkísilíð er einnig notað sem hindrunarlag milli sílikons og annarra málma.

Volframkísilíð er einnig mjög verðmætt í örrafmagnískum kerfum, þar á meðal er wolframkísilíð aðallega notað sem þunn filma til að framleiða örrásir. Í þessu skyni er hægt að plasma-æta wolfram kísilfilmuna með því að nota til dæmis kísil.

Rich Special Materials sérhæfir sig í framleiðslu á sputtering Target og gæti framleitt Tungsten Silicidestykkisamkvæmt forskrift viðskiptavina. Fyrir frekari upplýsingar, vinsamlegast hafðu samband við okkur.