Markmiðið hefur margar aðgerðir og víðtæka notkun á mörgum sviðum. Nýi úðunarbúnaðurinn notar næstum öfluga segla til að spíra rafeindirnar til að flýta fyrir jónun argon í kringum skotmarkið, sem eykur líkur á árekstri milli marksins og argonjóna,
Auka sputtering hraða. Almennt er DC sputtering notuð fyrir málmhúðun, en RF samskiptasputtering er notuð fyrir óleiðandi keramik segulmagnaðir efni. Grundvallarreglan er að nota glóðafhleðslu til að lemja argon (AR) jónir á yfirborð skotmarksins í lofttæmi, og katjónirnar í plasma munu flýta fyrir að þjóta á neikvæða rafskautsyfirborðið sem skvetta efnið. Þetta högg mun láta efnið í markinu fljúga út og setjast á undirlagið til að mynda filmu.
Almennt séð eru nokkrir eiginleikar filmuhúðunar með því að nota sputtering ferli:
(1) Hægt er að búa til málm, málmblöndu eða einangrunarefni í þunnfilmugögn.
(2) Við viðeigandi aðstæður er hægt að búa til kvikmyndina með sömu samsetningu úr mörgum og óreglulegum skotmörkum.
(3) Hægt er að búa til blönduna eða efnasambandið af markefni og gassameindum með því að bæta við súrefni eða öðrum virkum lofttegundum í útblástursloftinu.
(4) Hægt er að stjórna inntaksstraumnum og sputteringstímanum og auðvelt er að fá hánákvæma filmuþykkt.
(5) Það er gagnlegt fyrir framleiðslu annarra kvikmynda.
(6) Sputtered agnirnar verða varla fyrir áhrifum af þyngdaraflinu og hægt er að skipuleggja markið og undirlagið frjálslega.
Birtingartími: 24. maí 2022