Heildverslun AlSi málmblöndur sputtering Target High Purity Thin Film PVD húðun Sérsmíðuð Framleiðandi og birgir

Ál sílikon

AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD húðun Sérsmíðuð Valin mynd

Stutt lýsing:

Flokkur	Alloy sputtering Target
Efnaformúla	AlSi
Samsetning	Ál sílikon
Hreinleiki	99,9%，99,95%，99,99%
Lögun	Plötur, dálkamiðar, bogaskautar, sérsniðnar
Framleiðsluferli	Tómarúm bráðnun, PM
Stærð í boði	L≤2000mm, B≤200mm

Sendu tölvupóst til okkar

Upplýsingar um vöru

Vörumerki

Lýsing á áli kísilsputtering Target

Markmiðin eru útbúin með því að blanda ál- og kísildufti og síðan þjöppun í fullan þéttleika. Þannig þjappað efni eru mögulega hert og eru síðan mynduð í æskilega markform. Álkísilsputtermiðin okkar eru fáanleg í rétthyrndum, hringlaga eða sérsmíðuðum geometrískum formum, álinnihald frá 10-90% atóm, og eru með mikinn hreinleika, einsleita örbyggingu, mikla þéttleika og langan endingartíma.

Álkísil er mikið notað í bíla-, flugvéla- og byggingariðnaði fyrir einstaka samsetningu eftirsóknarverðra eiginleika, þar á meðal léttan þyngd, góða hitaleiðni og vélræna eiginleika. Þéttleiki þessa efnis er 2,6~2,7g/cm3, hitaleiðnistuðull 101~126W/(m·℃), togstuðull 71,0GPa, þreytumörk ±45MPa. Ál-kísil málmblöndur hafa einnig framúrskarandi tæringarþol, vélhæfni og suðuhæfni. Ál-kísil málmblöndur eru notaðar í margs konar bifreiða-, geimferða- og neytendavörunotkun, eins og vélkubbum og strokkafóðringum, stimplum, efni úr legum og rafeindabúnaði fyrir neytendur.+2. Það hefur hátt bræðslumark, sveigjanleika, hörku og tæringarþol.

Ál Silicon Sputtering Target Packaging

Ál sílikon sputter markið okkar er greinilega merkt og merkt að utan til að tryggja skilvirka auðkenningu og gæðaeftirlit. Mikil aðgát er höfð til að forðast skemmdir sem gætu orðið við geymslu eða flutning.

Fáðu samband

Ál kísil sputtering markmið RSM eru af mjög miklum hreinleika og einsleitum. Þau eru fáanleg í ýmsum gerðum, hreinleika, stærðum og verði. Við sérhæfum okkur í að framleiða háhreint þunnfilmuhúðunarefni með framúrskarandi frammistöðu sem og hæsta mögulega þéttleika og minnstu mögulegu meðalkornstærð til notkunar í moldhúðun、skreytingar、bílahlutar、low-E gler、hálfleiðara samþætt hringrás、þunn filma viðnám, grafískur skjár, loftrými, segulmagnaðir upptökur, snertiskjár, þunn filmu sólarrafhlaða og önnur líkamleg gufa útfellingar (PVD) umsóknir. Vinsamlegast sendu okkur fyrirspurn um núverandi verðlagningu á sputtering skotmörk og önnur útfellingarefni sem ekki eru skráð.

Fyrri: CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD húðun Sérsmíðuð

Næst: AlSiCu Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd húðun Sérsmíðuð