Selamat datang di situs web kami!

WNiFe Sputtering Target Lapisan Pvd Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan

Besi Nikel Tungsten

Deskripsi Singkat:

Kategori

Target Sputtering Paduan

Rumus Kimia

WNiFe

Komposisi

Besi Nikel Tungsten

Kemurnian

99,9%,99,95%,99,99%

Membentuk

Pelat, Target Kolom, katoda busur, Dibuat khusus

Proses Produksi

PM

Ukuran yang Tersedia

L≤200mm, L≤200mm


Detail Produk

Label Produk

Target sputtering paduan Besi Nikel Tungsten dibuat dengan menggunakan metalurgi serbuk. Ia memiliki banyak sifat berbeda, seperti kepadatan tinggi, keuletan, dan kekuatan yang relatif tak tertandingi oleh hampir semua paduan logam lainnya. Secara konvensional rasio Besi Nikel adalah 7:3 atau 1:1.

Paduan Besi Nikel Tungsten memiliki kepadatan tinggi, kekuatan, plastisitas, kemampuan mesin, konduktivitas termal dan listrik yang sangat baik, dan kapasitas untuk menyerap sinar-x dan sinar γ. Paduan Besi Nikel Tungsten banyak digunakan dalam aplikasi pelindung, penyeimbang, penyeimbang, peredam getaran, dan perkakas suhu.

Rich Special Materials mengkhususkan diri dalam Pembuatan Target Sputtering dan dapat memproduksi Bahan Sputtering Besi Nikel Tungsten sesuai dengan spesifikasi Pelanggan. Untuk informasi lebih lanjut, silakan hubungi kami.

1
2
3

  • Sebelumnya:
  • Berikutnya: