NiTa Sputtering Target Lapisan Pvd Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan

Target Sputtering Nikel Tantalum diproduksi melalui peleburan vakum atau proses metalurgi serbuk. Ini memiliki kemurnian tinggi dan struktur mikro homogen.

Target Sputtering Nikel Tantalum banyak digunakan di industri luar angkasa, pesawat terbang, dan navigasi. Ketahanannya yang baik terhadap reaktivitas permukaan suhu tinggi berasal dari banyaknya Tantalum yang ada dalam paduan, yang memiliki suhu leleh tinggi yaitu 3000°C. Aluminium, Yttrium dan Chronium biasanya ditambahkan untuk meningkatkan sifat-sifatnya.

Rich Special Materials mengkhususkan diri dalam Pembuatan Target Sputtering dan dapat memproduksi Bahan Sputtering Nikel Tantalum sesuai dengan spesifikasi Pelanggan. Untuk informasi lebih lanjut, silakan hubungi kami.