Pelapisan vakum dalam pemilihan bahan target sputtering telah menjadi perhatian masyarakat, saat ini seiring dengan pelapisan sputtering, khususnya pengembangan keterampilan pelapisan sputtering magnetron, dapat dikatakan sebagai informasi untuk dapat menargetkan persiapan bahan film tipis. dengan pemboman ion, karena dengan menyemprotkan bahan target dalam proses pelapisan ke jenis substrat, mempunyai pengaruh penting terhadap kualitas film sputtering, Oleh karena itu, persyaratan bahan target lebih ketat. Di sini kita akan belajar tentang peran target sputtering dalam pelapisan vakum bersama dengan editor Beijing Relaxation
一、Prinsip pemilihan dan klasifikasi bahan target
Dalam pemilihan bahan sasaran, selain penggunaan film itu sendiri yang harus dipilih, permasalahan berikut juga harus diperhatikan:
Masalah 1. Sesuai dengan persyaratan penggunaan dan kinerja membran, bahan target harus memenuhi persyaratan teknis kemurnian, kandungan majalah, keseragaman komponen, akurasi pemesinan, dan sebagainya.
Soal 2. Bahan target harus memiliki kekuatan mekanik dan stabilitas kimia yang baik setelah pembentukan film;
Soal 3. Bahan film perlu menghasilkan film gabungan dengan mudah dengan gas reaksi sebagai film sputtering reaktif;
Soal 4. Target dan matriks harus ditetapkan agar kuat, jika tidak, bahan film dengan daya rekat yang baik dengan matriks harus digunakan, pertama-tama semprotkan lapisan film bawah dan kemudian siapkan lapisan film yang diperlukan;
Pertanyaan 5. Dengan alasan memenuhi persyaratan kinerja film, semakin kecil perbedaan antara koefisien muai panas target dan matriks, semakin baik, sehingga dapat mengurangi pengaruh tegangan termal film sputtering;
Persiapan beberapa target yang umum digunakan
(1) target cr
Kromium sebagai bahan film sputtering tidak hanya mudah digabungkan dengan bahan dasar yang memiliki daya rekat tinggi, dan film CrQ3 kromium dan oksida, sifat mekaniknya, ketahanan asam dan stabilitas termalnya lebih baik.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. terutama bergerak dalam: target titanium zirkonium, target aluminium, target nikel, target kromium, target tungsten, target molibdenum, target tembaga, target silikon, target niobium, target tantalum, paduan titanium-silikon target, target paduan titanium-niobium, target paduan titanium-tungsten, target paduan titanium-zirkonium, target paduan nikel-kromium, target paduan silika-aluminium, target paduan nikel-vanadium, target paduan terner kromium-aluminium-silikon, bahan target paduan terner Ti al si, banyak digunakan dalam dekorasi/permukaan keras dan pelapis fungsional, kaca arsitektur, layar datar/fotolistrik optik, penyimpanan optik, elektronik, percetakan dan profesi lainnya.
Waktu posting: 02 Juni 2022