Dengan peningkatan kinerja komprehensif dan persyaratan lingkungan aplikasi industri elektronik, target sputtering molibdenum juga menunjukkan kinerja uniknya. Target sputtering molibdenum dapat membentuk film pada semua jenis bahan dasar. Film sputtering ini banyak digunakan pada komponen elektronik dan produk elektronik. Apa penerapan target sputtering molibdenum? Berikut kompilasi RSM yang akan dibagikan
Klasifikasi target sputtering molibdenum
1. Sasaran datar
2, Target berputar
Proses produksi target sputtering molibdenum :
Pilih produk pengepresan isostatik dingin – sintering dengan tungku frekuensi menengah – penggulungan dengan penggilingan – permesinan – pengujian –.
Penerapan bahan target sputtering molibdenum:
Bahan target molibdenum banyak digunakan untuk industri seperti kaca konduktif, STN/TN/TFT-LCD, kaca optik, pelapis ion dll. Cocok untuk semua sistem pelapisan bidang dan pelapisan putar.
Ini didasarkan pada kinerja molibdenum dengan titik leleh tinggi, konduktivitas listrik tinggi, impedansi spesifik rendah, ketahanan korosi lebih baik, dan kinerja lingkungan luar biasa. Di masa lalu, bahan kabel utama layar panel datar adalah kromium, tetapi dengan layar datar berskala besar dan presisi tinggi, semakin banyak bahan dengan impedansi spesifik rendah yang dibutuhkan.
Selain itu, perlindungan lingkungan juga harus diperhatikan. Molibdenum adalah salah satu bahan pilihan untuk sputtering layar panel datar karena keunggulan impedansi dan tekanan filmnya hanya 1/2 dibandingkan dengan kromium dan tidak menimbulkan polusi lingkungan.
Waktu posting: 28 Juni 2022