Beberapa pelanggan bertanya tentang target sputtering silikon. Kini, rekan-rekan dari Departemen Teknologi RSM akan menganalisis target sputtering silikon untuk Anda.
Target sputtering silikon dibuat dengan menyemprotkan logam dari ingot silikon. Targetnya dapat diproduksi dengan berbagai proses dan metode, termasuk pelapisan listrik, sputtering, dan pengendapan uap. Perwujudan yang disukai selanjutnya memberikan proses pembersihan dan pengetsaan tambahan untuk mencapai kondisi permukaan yang diinginkan. Target yang dihasilkan sangat reflektif, dengan kekasaran kurang dari 500 angstrom dan kecepatan pembakaran yang relatif cepat. Film yang dibuat oleh target silikon memiliki jumlah partikel yang rendah.
Target sputtering silikon digunakan untuk mendepositkan film tipis pada bahan berbasis silikon. Mereka umumnya digunakan dalam aplikasi tampilan, semikonduktor, optik, komunikasi optik dan pelapisan kaca. Mereka juga cocok untuk mengetsa komponen berteknologi tinggi. Target sputtering silikon tipe-N dapat digunakan untuk berbagai tujuan. Ini berlaku untuk banyak bidang, termasuk elektronik, sel surya, semikonduktor, dan layar.
Target sputtering silikon adalah aksesori sputtering yang digunakan untuk menyimpan material di permukaan. Biasanya terdiri dari atom silikon. Proses sputtering memerlukan jumlah material yang tepat, yang mungkin merupakan tantangan besar. Menggunakan peralatan sputtering yang ideal adalah satu-satunya cara untuk membuat komponen berbasis silikon. Perlu dicatat bahwa target sputtering silikon tidak digunakan dalam proses sputtering.
Waktu posting: 24 Oktober 2022