Selamat datang di situs web kami!

Berita

  • Fungsi Target Sputtering pada Lapisan Vakum

    Fungsi Target Sputtering pada Lapisan Vakum

    Targetnya banyak efeknya, dan ruang pengembangan pasarnya besar. Ini sangat berguna di banyak bidang. Hampir semua peralatan sputtering baru menggunakan magnet yang kuat untuk memutar elektron untuk mempercepat ionisasi argon di sekitar target, sehingga meningkatkan kemungkinan tumbukan ...
    Baca selengkapnya
  • Kategori Target Sputtering Dibagi Berdasarkan Teknologi Magnetron Sputtering

    Kategori Target Sputtering Dibagi Berdasarkan Teknologi Magnetron Sputtering

    Ini dapat dibagi menjadi sputtering magnetron DC dan sputtering magnetron RF. Metode sputtering DC mensyaratkan bahwa target dapat mentransfer muatan positif yang diperoleh dari proses pemboman ion ke katoda yang bersentuhan dekat dengannya, dan kemudian metode ini hanya dapat menyemprotkan konduktor...
    Baca selengkapnya
  • Tindakan Pencegahan untuk Target Paduan

    Tindakan Pencegahan untuk Target Paduan

    1、 Persiapan sputtering Sangat penting untuk menjaga ruang vakum, terutama sistem sputtering tetap bersih. Residu apa pun yang terbentuk dari minyak pelumas, debu, dan lapisan sebelumnya akan mengumpulkan uap air dan polutan lainnya, yang secara langsung akan mempengaruhi tingkat vakum dan meningkatkan...
    Baca selengkapnya
  • Alasan Menghitamnya Target yang Dilapisi Vakum

    Alasan Menghitamnya Target yang Dilapisi Vakum

    Warna pelat atas dan bawah lapisan vakum tidak tepat, dan warna kedua ujung pelat berbeda. Apalagi warnanya menghitam? Insinyur dari Rich Special Materials Co., Ltd, Mr Mu Jiangang, menjelaskan alasannya. Menghitamnya disebabkan oleh sisa udara...
    Baca selengkapnya
  • Klasifikasi dan Penerapan Target Sputtering Magnetron

    Klasifikasi dan Penerapan Target Sputtering Magnetron

    1. Metode sputtering magnetron: sputtering magnetron dapat dibagi menjadi sputtering DC, sputtering frekuensi menengah, dan sputtering RF A. Catu daya sputtering DC murah dan kepadatan film yang disimpan buruk. Umumnya, baterai fototermal dan film tipis dalam negeri digunakan dengan...
    Baca selengkapnya
  • Pengaruh Target Logam Molibdenum pada LCD Ponsel

    Pengaruh Target Logam Molibdenum pada LCD Ponsel

    Saat ini, telepon seluler telah menjadi barang yang paling diperlukan oleh masyarakat, dan tampilan telepon seluler menjadi semakin mewah. Desain layar yang komprehensif dan desain poni kecil merupakan langkah penting dalam pembuatan LCD ponsel. Tahukah Anda apa itu— Pelapisan: gunakan magnetron ...
    Baca selengkapnya
  • Perbedaan Antara Lapisan Evaporasi dan Lapisan Sputtering

    Perbedaan Antara Lapisan Evaporasi dan Lapisan Sputtering

    Seperti kita ketahui bersama, metode yang biasa digunakan dalam pelapisan vakum adalah transpirasi vakum dan sputtering ion. Apa perbedaan antara lapisan transpirasi dan lapisan sputtering? Banyak orang memiliki pertanyaan seperti itu. Mari berbagi dengan Anda perbedaan antara lapisan transpirasi dan sputter...
    Baca selengkapnya
  • Penerapan target sputtering tembaga dengan kemurnian tinggi

    Penerapan target sputtering tembaga dengan kemurnian tinggi

    Target sputtering terutama digunakan dalam industri elektronik dan informasi, seperti sirkuit terpadu, penyimpanan informasi, LCD, memori laser, pengontrol elektronik, dll. Target tersebut juga digunakan di bidang pelapisan kaca, bahan tahan aus, ketahanan korosi suhu tinggi, lulusan tinggi...
    Baca selengkapnya
  • Prospek pengembangan target tembaga dengan kemurnian tinggi

    Prospek pengembangan target tembaga dengan kemurnian tinggi

    Saat ini, hampir semua target tembaga logam dengan kemurnian sangat tinggi yang dibutuhkan oleh industri IC dimonopoli oleh beberapa perusahaan multinasional besar asing. Semua target tembaga ultra murni yang dibutuhkan industri IC dalam negeri perlu diimpor, yang tidak hanya mahal, tetapi juga ...
    Baca selengkapnya
  • Teknologi dan Penerapan Target Tungsten Kemurnian Tinggi

    Teknologi dan Penerapan Target Tungsten Kemurnian Tinggi

    Logam tungsten tahan api dan paduan tungsten memiliki keunggulan stabilitas suhu tinggi, ketahanan tinggi terhadap migrasi elektron, dan koefisien emisi elektron yang tinggi. Target tungsten dan paduan tungsten dengan kemurnian tinggi terutama digunakan untuk membuat elektroda gerbang, kabel sambungan, difusi...
    Baca selengkapnya
  • Apa karakteristik dan prinsip teknis bahan target pelapisan

    Apa karakteristik dan prinsip teknis bahan target pelapisan

    Film tipis pada target yang dilapisi adalah bentuk material khusus. Pada arah ketebalan tertentu, skalanya sangat kecil, yaitu besaran mikroskopis yang dapat diukur. Selain itu, karena tampilan dan antarmuka ketebalan film, kontinuitas material terhenti, yang membuat ...
    Baca selengkapnya
  • Target keramik apa saja yang ada disana

    Target keramik apa saja yang ada disana

    Dengan berkembangnya industri elektronik, peralihan dari informasi berteknologi tinggi ke film tipis terjadi secara bertahap, dan periode pelapisan dilakukan dengan cepat. Target keramik, sebagai dasar pengembangan industri film bukan logam, telah mencapai perkembangan yang belum pernah terjadi sebelumnya dan ...
    Baca selengkapnya