Selamat datang di situs web kami!

Berita

  • Apa bahan target sputtering magnetron

    Apa bahan target sputtering magnetron

    Bahan sasaran sputtering logam, bahan pelapis sputtering paduan pelapis, bahan pelapis sputtering keramik, bahan sasaran sputtering keramik borida, bahan sasaran sputtering keramik karbida, bahan sasaran sputtering keramik fluorida, bahan sasaran sputtering keramik nitrida, o...
    Baca selengkapnya
  • Sifat utama bahan target sputtering

    Sifat utama bahan target sputtering

    Target pasar sekarang pasti sudah sangat familiar dengan kita, sekarang target pasarnya juga semakin meningkat, berikut ini kinerja utama sputtering target yang dibagikan oleh redaksi dari RSM. Kemurnian Kemurnian bahan target merupakan salah satu indeks kinerja utama, karena kemurnian tar...
    Baca selengkapnya
  • Apa itu bahan target sputter

    Apa itu bahan target sputter

    Pelapisan sputtering Magnetron adalah metode pelapisan uap fisik baru, dibandingkan dengan metode pelapisan evaporasi sebelumnya, keunggulannya dalam banyak aspek cukup luar biasa. Sebagai teknologi yang matang, sputtering magnetron telah diterapkan di banyak bidang. Prinsip sputtering magnetron: ...
    Baca selengkapnya
  • Penyebab menghitamnya material target pada lapisan vakum

    Penyebab menghitamnya material target pada lapisan vakum

    Sebelum pelanggan berkonsultasi tentang alasan mengapa warna bahan target lapisan vakum berubah menjadi hitam, mungkin akan ada pelanggan lain yang mengalami masalah ini atau serupa, sekarang izinkan para ahli dari Departemen teknologi RSM menjelaskan kepada kami tentang alasan mengapa lapisan vakum ...
    Baca selengkapnya
  • Penerapan dan prinsip target sputtering

    Penerapan dan prinsip target sputtering

    Mengenai penerapan dan prinsip teknologi target sputtering, beberapa pelanggan telah berkonsultasi dengan RSM, kini untuk masalah yang lebih memprihatinkan ini, pakar teknis berbagi beberapa pengetahuan terkait yang spesifik. Aplikasi target sputtering: Mengisi partikel (seperti ion argon) ...
    Baca selengkapnya
  • Perbedaan antara teknologi sputtering dan target sputtering serta aplikasinya

    Perbedaan antara teknologi sputtering dan target sputtering serta aplikasinya

    Kita semua tahu bahwa sputtering merupakan salah satu teknologi utama dalam penyiapan bahan film. Ia menggunakan ion-ion yang dihasilkan oleh sumber ion untuk mempercepat agregasi dalam ruang hampa untuk membentuk berkas ion berkecepatan tinggi, membombardir permukaan padat, dan ion-ion bertukar energi kinetik dengan atom-atom di...
    Baca selengkapnya
  • Teknologi pembuatan target paduan aluminium kromium

    Teknologi pembuatan target paduan aluminium kromium

    Target paduan aluminium kromium, seperti namanya, merupakan target yang terbuat dari paduan kromium dan aluminium. Banyak teman-teman yang sangat penasaran bagaimana target ini dibuat. Sekarang mari para ahli teknis dari RSM memperkenalkan metode produksi target paduan aluminium kromium. Produksi...
    Baca selengkapnya
  • Bidang aplikasi target sputtering

    Bidang aplikasi target sputtering

    Seperti kita ketahui bersama, spesifikasi target sputtering sangat banyak, dan bidang penerapannya juga sangat luas. Jenis target yang biasa digunakan di berbagai bidang juga berbeda. Hari ini, mari kita pelajari tentang klasifikasi bidang aplikasi target sputtering dengan ...
    Baca selengkapnya
  • Apa itu target polisilikon

    Apa itu target polisilikon

    Polisilikon merupakan bahan target sputtering yang penting. Penggunaan metode sputtering magnetron untuk menyiapkan SiO2 dan film tipis lainnya dapat membuat bahan matriks memiliki ketahanan optik, dielektrik, dan korosi yang lebih baik, yang banyak digunakan di industri layar sentuh, optik, dan lainnya. ...
    Baca selengkapnya
  • Jenis target logam yang umum

    Jenis target logam yang umum

    Seperti kita ketahui bersama, material target adalah material target partikel bermuatan berkecepatan tinggi. Ada banyak analogi bahan target, seperti logam, paduan, oksida dan sebagainya. Industri yang digunakan juga berbeda-beda dan banyak digunakan. Jadi, apa saja target logam yang umum? Berapa harganya ...
    Baca selengkapnya
  • Jenis target keramik yang umum

    Jenis target keramik yang umum

    Dengan berkembangnya industri informasi elektronik, material berteknologi tinggi secara bertahap dipindahkan dari lembaran ke film tipis, dan perangkat pelapis berkembang pesat. Bahan sasarannya adalah bahan elektronik khusus yang bernilai tambah tinggi, dan merupakan sumber sputtering bahan film tipis. ...
    Baca selengkapnya
  • Kelebihan dan kekurangan teknologi pelapisan sputtering

    Kelebihan dan kekurangan teknologi pelapisan sputtering

    Baru-baru ini, banyak pengguna yang bertanya tentang kelebihan dan kekurangan teknologi pelapisan sputtering. Sesuai dengan kebutuhan pelanggan kami, kini para ahli dari Departemen Teknologi RSM akan berbagi dengan kami, berharap dapat memecahkan masalah. Mungkin ada poin-poin berikut: 1...
    Baca selengkapnya