Target Yttrium Kemurnian Tinggi — Anggota Penting Lapisan PVD

Apa target sputtering yttrium?
Target yttrium terutama dihasilkan oleh target sputtering unsur logam yttrium, karena unsur yttrium (Y) merupakan salah satu unsur logam tanah jarang, sehingga target yttrium disebut juga dengan target tanah jarang.
Target yttrium terutama digunakan dalam teknologi deposisi sputtering. Teknologi deposisi sputtering merupakan salah satu teknologi deposisi uap fisik (PVD), dan merupakan salah satu teknologi utama untuk preparasi bahan film tipis elektronik. Dengan membombardir permukaan target dengan partikel berenergi tinggi (seperti ion atau berkas elektron), atom atau molekul target tergagap dan disimpan pada substrat lain untuk membentuk film atau lapisan yang diinginkan.
Target yttrium hanyalah bahan sumber film atau pelapis yang diinginkan yang dibuat dengan teknologi PVD.

Apaitutarget sputtering yttrium digunakan untuk?

Target Yttrium memiliki penerapan yang luas di beberapa bidang, berikut adalah bidang penerapan utamanya:

1. Bahan semikonduktor: Dalam industri semikonduktor, target yttrium digunakan untuk menghasilkan lapisan tertentu pada bahan semikonduktor atau komponen elektronik, seperti transistor, sirkuit terpadu, dll.
2. Pelapisan optik: Di bidang optik, target yttrium dapat digunakan untuk menyiapkan pelapis optik dengan indeks bias tinggi dan laju hamburan rendah, yang memainkan peran penting dalam produksi perangkat optik seperti laser dan filter optik.
3. Deposisi film tipis: Target yttrium menempati posisi penting dalam teknologi deposisi film tipis, dan kemurniannya yang tinggi, stabilitas yang baik, serta sifat fisik dan kimia yang spesifik menjadikannya pilihan ideal untuk menyiapkan berbagai bahan film tipis. Bahan film tipis ini memiliki beragam aplikasi di bidang optik, elektronik, magnet, dan bidang lainnya.
4. Bidang medis: target yttrium memiliki aplikasi penting dalam pengobatan radiasi, seperti sumber sinar-X dan sinar gamma, pencitraan diagnostik (seperti CT scan), dan terapi radiasi. Selain itu, isotop yttrium tertentu (seperti Y-90) juga dapat digunakan dalam radiofarmasi untuk pengobatan kanker tertentu yang ditargetkan.
5. Industri energi nuklir: Dalam reaktor nuklir, target yttrium digunakan sebagai bahan pengungkit untuk mengendalikan kecepatan dan stabilitas reaksi nuklir karena kapasitas penyerapan neutronnya yang sangat baik.

Catatan: Karena persyaratan kinerja target yttrium di bidang aplikasi yang berbeda mungkin berbeda, target yang sesuai perlu dipilih sesuai dengan situasi aktual dalam aplikasi spesifik. (Seperti kemurnian spesifik, rasio komposisi, ukuran, bentuk, dll., disesuaikan dengan kebutuhan spesifik.)

Teknologi produksi target sputtering yttrium?

1. Siapkan bubuk yttrium 2. HIP, cetakan pres 3. Sintering suhu tinggi 4. Pemrosesan selanjutnya (Pemotongan, Poles, dll.) 5. Pembersihan dan pengepakan

Catatan: Selain langkah-langkah dasar di atas, sesuai dengan metode persiapan spesifik dan kebutuhan aplikasi, target sputtering yttrium mungkin juga melibatkan langkah dan teknologi lain, seperti metode sputtering, metode peleburan vakum, dll. Metode ini membantu menyesuaikan dan mengoptimalkan lebih lanjut kinerja dan struktur bahan target.

Bagaimana cara memilih target sputtering yang berkualitas tinggi?

Berikut ini daftar 7 faktor penting dalam memilih target sputtering berkualitas tinggi:

1.Haigh kemurnian

Target dengan kemurnian tinggi memiliki sifat material yang lebih baik serta sifat fisik dan kimia yang lebih stabil, yang penting untuk memastikan kualitas dan kinerja lapisan sputtering. Persyaratan kemurnian spesifik harus ditentukan sesuai dengan skenario aplikasi, beberapa skenario aplikasi sederhana tidak perlu mengejar kemurnian ultra-tinggi, agar tidak menambah biaya yang tidak perlu. Apa yang cocok untuk Anda adalah yang terbaik.

2.Stabilitas

Stabilitas target juga sama pentingnya, yang dapat menghindari kerugian material atau fluktuasi kinerja selama sputtering. Oleh karena itu, dalam pemilihannya, seseorang memilih perlakuan khusus atau memiliki stabilitas produk yang baik.

3.Ukuran dan bentuk

Ukuran dan bentuk target sputtering harus dipilih sesuai dengan persyaratan spesifik peralatan pelapisan untuk beradaptasi dengan berbagai proses sputtering dan kebutuhan produksi. Memastikan bahwa target disesuaikan dengan peralatan akan meningkatkan efisiensi sputtering dan mengurangi limbah.

4.Kepadatan

Kepadatan merupakan salah satu indikator penting untuk mengukur kualitas bahan sasaran. Bahan target dengan kepadatan tinggi dapat memastikan efek sputtering yang lebih baik. Saat memilih, Anda harus memperhatikan data kepadatan target, dan mencoba memilih produk dengan kepadatan lebih tinggi.

5. Akurasi pemrosesan

Keakuratan pengolahan target juga menjadi salah satu faktor yang perlu diperhatikan. Umumnya, keakuratan pemrosesan target harus berada dalam ±0,1 mm untuk memastikan stabilitas proses sputtering dan keseragaman kualitas lapisan.

6. Persyaratan khusus

Untuk beberapa skenario aplikasi khusus, seperti kebutuhan transmisi cahaya yang tinggi, penyerapan target yang rendah (lapisan optik) atau konduktivitas tinggi, stabilitas target yang tinggi (medan elektronik), harus dipilih sesuai dengan kebutuhan spesifik target yang sesuai. jenis.

7.Pilih produsen atau pemasok profesional.