AlCu Sputtering Target Lapisan PVD Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan

Target sputtering Aluminium Tembaga sangat cocok untuk sejumlah industri dan aplikasi, karena kekerasannya yang tinggi, kekuatan tariknya, dan bobotnya yang ringan. Biasanya mengandung 1-3% tembaga dan memiliki sifat kimia yang mirip dengan Aluminium. AlCu memiliki sifat mekanik yang tinggi, kemampuan mesin yang sangat baik, dan kesesuaian suhu tinggi, sehingga dapat menjadi material yang cocok untuk paduan Aluminium berperforma tinggi. Target sputtering paduan AlCu dengan kemurnian tinggi dapat digunakan di berbagai bidang industri mulai dari semikonduktor dan komponen fungsional elektronik.

Rich Special Materials mengkhususkan diri dalam Pembuatan Target Sputtering dan dapat memproduksi Bahan Sputtering Aluminium Chromium sesuai dengan spesifikasi Pelanggan. Produk kami memiliki sifat mekanik yang sangat baik, struktur homogen, permukaan yang dipoles tanpa segregasi, pori-pori, atau retakan. Untuk informasi lebih lanjut, silakan hubungi kami.