Մեծածախ TiAlSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար

Տիտանի ալյումինե սիլիկոն

TiAlSi Sputtering Target Բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն.

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	TiAlSi
Կազմը	Տիտանի ալյումինե սիլիկոն
Մաքրություն	99,5%, 99,9%, 99,95%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	PM
Հասանելի չափ	L≤2000 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Titanium Aluminium Silicon Sputtering Target Description

Տիտանի ալյումինե սիլիցիումի ցողման թիրախը արտադրվում է ուժային մետալուրգիայի միջոցով:
Տիտանի ալյումինե սիլիցիումի համաձուլվածք, որը պայմանականորեն օգտագործվում է ավտոմոբիլային շարժիչների արտադրության մեջ: Այն ունի գերազանց բարձր ջերմաստիճանի համապատասխանություն և մաշվածության դիմադրություն: Ti-Al-Si խառնուրդի կիրառումը կարող է զգալիորեն երկարացնել շարժիչի բաղադրիչների կյանքը մոտ 35%-ով: Ինչ վերաբերում է դրա կիրառմանը մոտոցիկլետի և ավտոմոբիլային անիվների մեջ, այն ավելի լավ ձուլման, մշակման, հոգնածության դիմադրություն և հարվածի դիմացկունություն է ցուցաբերում, քան A356 ալյումինը:

Արագ ամրացվող ալյումինե համաձուլվածքը կարելի է ձեռք բերել արագ պինդացման գործընթացով, որը կոչվում է «հալված պտտում», որն առաջացնում է գերազանց հատկություններ՝ համեմատած սովորական ալյումինի համաձուլվածքի հետ՝ մանրահատիկ միկրոկառուցվածքի և համաձուլման ավելի ճկունության հետ մեկտեղ: Դա օդանավերի արդյունաբերության մեջ պոտենցիալ նյութ է, որը փոխարինում է 150-300℃ ջերմաստիճանում օգտագործվող տիտանի բազային խառնուրդին:

TiAlSi թիրախների նստեցման գործընթացում TiAlSi/TiAlSiN-ը կարող է առանձին ձևավորվել որպես բարձրորակ բյուրեղային շերտերի բազմաշերտ՝ հիմնականում խորանարդ կառուցվածքներով: Այս բազմաշերտ ծածկույթները պատրաստել են այս նյութերը կոշտ ծածկույթների համար՝ մեծացնելով կոշտ միջավայրում օգտագործվող գործիքների կյանքը:

Titanium Aluminium Silicon Sputtering Target Packaging

Մեր Titanium Aluminium Silicon sputter թիրախը հստակ պիտակավորված է և դրսից պիտակավորված՝ արդյունավետ նույնականացում և որակի վերահսկում ապահովելու համար: Մեծ ուշադրություն է դարձվում՝ խուսափելու ցանկացած վնասից, որը կարող է առաջանալ պահեստավորման կամ տեղափոխման ընթացքում:

Ստացեք կապ

RSM-ի Titanium Aluminium Silicon sputtering թիրախները չափազանց բարձր մաքրության և միատեսակ են: Դրանք հասանելի են տարբեր ձևերով, մաքրությամբ, չափերով և գներով: Մենք մասնագիտացած ենք բարձր մաքրության բարակ թաղանթապատման նյութերի արտադրության մեջ՝ գերազանց կատարողականությամբ, ինչպես նաև հնարավոր ամենաբարձր խտությամբ և հնարավոր ամենափոքր միջին չափսերով՝ կաղապարի ծածկույթում օգտագործելու համար, դեկորացիա, ավտոմեքենայի մասեր, ցածր E ապակի, կիսահաղորդչային ինտեգրալ միացում, բարակ թաղանթ: դիմադրություն, գրաֆիկական էկրան, օդատիեզերք, մագնիսական ձայնագրում, հպում էկրան, բարակ թաղանթով արևային մարտկոց և այլ ֆիզիկական գոլորշիների նստեցում (PVD): Խնդրում ենք մեզ հարցում ուղարկել ցայտող թիրախների և այլ նստվածքային նյութերի ընթացիկ գների վերաբերյալ, որոնք նշված չեն:

Նախորդը: TiAlV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Հաջորդը: TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made