Մեծածախ NiCrCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար

Նիկել քրոմ պղինձ

NiCrCu Sputtering Target Բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն.

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	NiCrCu
Կազմը	Նիկել քրոմ պղինձ
Մաքրություն	99,5%, 99,7%, 99,9%, 99,99%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	Վակուումային հալեցում
Հասանելի չափ	L≤2000 մմ, W≤350 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

NiCrCu Sputtering թիրախը արտադրվում է նիկել-քրոմ պղնձի հումքի հալման և ձուլման միջոցով: Այն ունի բարձր դիմադրողականություն, ցածր ջերմաստիճանի գործակից և բարձր զգայունություն: Նիկելը և քրոմը ունեն մակերևույթի նման էներգիա, և NiCrCu-ի բարակ թաղանթի բաղադրությունը նման է ցողման թիրախին, ուստի հեշտ է վերահսկել նստվածքի արդյունքը:

Rich Special Materials-ը մասնագիտացած է ցայտող թիրախի արտադրության մեջ և կարող է արտադրել նիկել քրոմ պղնձի ցողման նյութեր՝ ըստ հաճախորդների բնութագրերի: Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ:

Նախորդը: NiCrAlY Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված

Հաջորդը: NiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made