Մեծածախ FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար

Երկաթե կոբալտ տանտալ

FeCoTa Sputtering Target Բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն.

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	FeCoTa
Կազմը	Երկաթե կոբալտ տանտալ
Մաքրություն	99,9%, 99,95%, 99,99%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	Վակուումային հալեցում, PM
Հասանելի չափ	L≤200 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Երկաթե կոբալտ տանտալի թիրախները սովորաբար հասանելի են շրջանաձև ձևով և ուղղահայաց մագնիսական ձայնագրման կրիտիկական բարակ թաղանթով: Խառնուրդում առկա տանտալի զգալի քանակությունը կհանգեցնի տարանջատման և չլուծված մասնիկների առաջացմանը: Մենք օգտագործում ենք արտադրության յուրահատուկ մեթոդ, որը կարող է ապահովել միկրոկառուցվածքի միատարրությունը և բարելավել նյութերի մեխանիկական հատկությունները:

Ապրանքի անվանումը		FeCoTa
Fe/wt%		Հաշվեկշիռ	Հաշվեկշիռ	Հաշվեկշիռ
Co/wt%		21,6±0,5	21,9±0,5	20,2±0,5
Ta/wt%		41,1±0,8	39,4±0,8	44,3±0,8
Մետաղական խառնուրդի պարունակությունը(ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Գազի խառնուրդի պարունակությունը(ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials-ը մասնագիտացած է ցայտող թիրախի արտադրության մեջ և կարող է արտադրել երկաթե կոբալտ տանտալ ցայտող նյութեր՝ ըստ հաճախորդների բնութագրերի: Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ:

Նախորդը: FeCo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Հաջորդը: FeSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made