CuTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Copper Titanium sputtering թիրախը արտադրվում է վակուումային հալման միջոցով: Այն ունի 80%-90% պղնձի պարունակություն և տիտանի մնացորդ: Այն ցուցադրում է չափազանց բարձր ամրություն (1000N/mm^2), սթրեսի թուլացման գերազանց վարքագիծ և բարձր ջերմաստիճանի համապատասխանություն: Պղնձի Տիտանի խառնուրդը հուսալի էկոլոգիապես մաքուր նյութ է: Այն կարող է բարելավել կարծրությունը, ուժը, էլեկտրական հաղորդունակությունը և երկարացման տոկոսը:

Rich Special Materials-ը մասնագիտացած է ցայտող թիրախի արտադրության մեջ և կարող է արտադրել պղնձե տիտանի ցայտող նյութեր՝ ըստ հաճախորդների պահանջների: Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ: