Մեծածախ AlCr Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար

Ալյումինե քրոմ

AlCr համաձուլվածքի ցրման թիրախ բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն.

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	AlCr
Կազմը	Ալյումինե քրոմ
Մաքրություն	99,7%, 99,9%, 99,95%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	PM
Հասանելի չափ	L≤2000 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Ալյումինե քրոմի ցրման թիրախի նկարագրություն

Ալյումինե քրոմի ցողման թիրախRich Special Materials-ից Al և Cr պարունակող խառնուրդ ցողող նյութ է: Այսպիսով,Ալյումինե քրոմ ցողող թիրախունի այս երկու տարրերի առավելությունները.

Ալյումինը, որը նաև կոչվում է ալյումին, քիմիական տարր է, որը ծագել է ալյումինի լատիներեն անունից, որը նշանակում է դառը աղ: Այն առաջին անգամ հիշատակվել է 1825 թվականին և դիտարկվել է Հ.Ս.Առստեդի կողմից։ Մեկուսացումը հետագայում իրականացվել և հայտարարվել է HCÃ˜rsted-ի կողմից: «Ալ»-ը ալյումինի կանոնական քիմիական խորհրդանիշն է: Տարրերի պարբերական աղյուսակում նրա ատոմային թիվը 13 է՝ 3-րդ պարբերությունում և 13-րդ խմբում գտնվելու վայրով, որոնք պատկանում են p-բլոկին։ Ալյումինի հարաբերական ատոմային զանգվածը 26,9815386 (8) Դալտոն է, փակագծերում նշված թիվը ցույց է տալիս անորոշությունը։

Քրոմը քիմիական տարր է, որը ծագել է հունարեն «chroma» բառից, որը նշանակում է գույն: Այն վաղ օգտագործվել է մինչև մ.թ. 1-ը և հայտնաբերվել է տերակոտայի բանակի կողմից: «Cr»-ն քրոմի կանոնական քիմիական նշանն է: Տարրերի պարբերական աղյուսակում նրա ատոմային թիվը 24 է՝ 4-րդ պարբերաշրջանում և 6-րդ խմբում տեղակայված, որոնք պատկանում են d-բլոկին։ Քրոմի հարաբերական ատոմային զանգվածը 51,9961(6) Դալտոն է, փակագծերում նշված թիվը ցույց է տալիս անորոշությունը։

Մեր բնորոշ AlCr թիրախները և դրանց հատկությունները

	Cr-70Alժամը%	Cr-60Alժամը%	Cr-50Alժամը%
Մաքրություն (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
Խտություն(գ/սմ³）	3.7	4.35	4.55
Gանձրեւ Չափը(մկմ)	100/50	100/50	100/50
Գործընթացը	ՀԻՊ	ՀԻՊ	ՀԻՊ

Rich Special Materials-ը մասնագիտացած է ցայտող թիրախի արտադրության մեջ և կարող է արտադրել Chronium Aluminium Silicon Sputtering Materials՝ ըստ հաճախորդների բնութագրերի: Մեր արտադրանքն առանձնանում է գերազանց մեխանիկական հատկություններով, միատարր կառուցվածքով, փայլեցված մակերեսով, առանց տարանջատման, ծակոտիների կամ ճաքերի: Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ:

Նախորդը: CrAlSi համաձուլվածքի ցրման թիրախ բարձր մաքրության բարակ ֆիլմի Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված

Հաջորդը: CrAlMo Alloy Sputtering Target High մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված